次世代3次元X線リソグラフィーの提案と高輝度液晶バックライトユニット導光板への応用
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概要
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We have developed a new 3D x-ray lithography system for LIGA processing using synchrotron radiation at the NewSUBARU facility of the University of Hyogo. The x-ray lithography system can utilize two different energy regions; one is a high-energy region from 3 keV to 10 keV, and the other is a low-energy region from 0.1 to 2 keV. Each energy region can be selected in accordance with the size and shape of the desired microstructures. It is demonstrated that large-area high luminescence 7 inch optical waveguide for the liquid crystal back light unit was successfully fabricated using this x-ray lithography method.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2007-02-01
著者
-
内海 裕一
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
岸本 武文
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
服部 正
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
南谷 めぐみ
フジプレアム株式会社 研究開発部
-
服部 正
兵庫県立大学
-
内海 裕一
NTT基礎技術総合研究所
-
内海 裕一
兵庫県立大学
-
Utsumi Yuichi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry University Of Hyogo
-
内海 裕一
兵庫県立大
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