425 X線マスクの回転によるマイクロ構造体の傾斜面の形成(OS 材料の超精密加工・マイクロ加工)
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概要
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Quasi-three-dimensional (3D) microstructure fabrication technique utilizing deep X-ray lithography (DXL) has been developed. In this technique, as the intensity distribution of the X-rays is controlled by a newly developed bending mirror, the exposure residual depth of polymethyl methacrylate (PMMA) resist is controlled over the exposed area. We also investigated the effects of controlling the beam intensity distribution for exposure changing X-ray mask absorber angle on the obtained quasi-3D resist pattern shapes. As the results. Quasi-3D PMMA pattern with inclined shape sidewall was successfully fabricated.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2001-11-02
著者
-
内海 裕一
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
服部 正
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
服部 正
姫路工業大学高度産業科学技術研究所
-
銘苅 春隆
姫路工業大学高度産業科学技術研究所
-
内海 裕一
姫路工業大学高度産業科学技術研究所
-
銘苅 春隆
独立行政法人 産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
-
内海 裕一
NTT基礎技術総合研究所
-
内海 裕一
兵庫県立大学
-
Utsumi Yuichi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry University Of Hyogo
-
内海 裕一
兵庫県立大
-
内海 裕一
姫路工業大学
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