Enhancement of Peel Strength at Interface between Spattered Films and Substrate Materials by Fast-Atom-Beam Irradiation(M^4 processes and micro-manufacturing for science)
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概要
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We tried the method to increase the peel strength between thin film metals and various substrate materials using saddle Field FAB (Fast Atom Beam) sources. It is notable that the peel strength was increased more than several times for all substrates than those who were not modified by surface activation using FAB irradiation. Highest peel strength was observed at the coupling of Si and metals in both case of Ar irradiation and SF_6 reactive etching by FAB. This surface activation process by FAB is expected as one of the available techniques for pre treatment of the film deposition of electrical.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 2005-10-18
著者
-
内海 裕一
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
-
Utsumi Yuichi
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
-
Ukita Yoshiaki
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
-
Asano Toshifumi
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
-
OKUDA Koichi
Graduate School of Engineering, University of Hyogo
-
HATTORI Tadashi
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
-
KISHIMOTO Takefumi
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
-
内海 裕一
NTT基礎技術総合研究所
-
内海 裕一
兵庫県立大学
-
Okuda Koichi
Graduate School Of Engineering University Of Hyogo
-
Hattori Tadashi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry University Of Hyogo
-
Hattori Tadashi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry
-
Utsumi Yuichi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry
-
Ukita Yoshiaki
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry University Of Hyogo
-
Asano Toshifumi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry University Of Hyogo
-
Utsumi Yuichi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry University Of Hyogo
-
内海 裕一
兵庫県立大
-
Kishimoto Takefumi
Laboratory Of Advanced Science And Technology For Industry University Of Hyogo
-
Ukita Yoshiaki
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry (LASTI), University of Hyogo, Kamigori, Hyogo 678-1205, Japan
-
HATTORI Tadashi
Laboratory of Advanced Science & Technology for Industry, University of Hyogo
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