SiGe固相成長による原子層レベル急峻ヘテロ界面の形成
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2002-09-10
著者
-
杉井 信之
(株)日立製作所中央研究所
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山口 伸也
日立製作所中央研究所
-
朴 成基
日立製作所中央研究所
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杉井 信之
日立製作所・中央研究所
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中川 清和
日立製作所中央研究所
-
宮尾 正信
日立製作所中央研究所
-
朴 成基
日立製作所・中央研究所
-
山口 伸也
日立製作所・中央研究所
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