中川 清和 | 日立製作所中央研究所

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• 中川 清和

  日立製作所中央研究所

• 宮尾 正信

  日立製作所中央研究所

• 杉井 信之

  (株)日立製作所中央研究所

• 山口 伸也

  日立製作所中央研究所

• 杉井 信之

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• 山口 伸也

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• 中川 清和

  (株)日立製作所 中央研究所

• 半那 純一

  東京工業大学 大学院理工学研究科 附属像情報工学研究施設

• 朴 成基

  日立製作所中央研究所

• 三輪 浩之

  ソニー株式会社厚木テクノロジーセンター

• 森川 武則

  日本電気株式会社C&Cメディア研究所

• 森川 武則

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• 半那 純一

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 半那 純一

  東京工業大学 像情報工学研究所

• 朴 成基

  日立製作所・中央研究所

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著作論文

• SiGe固相成長による原子層レベル急峻ヘテロ界面の形成
• SC-9-3 Siヘテロ超構造技術とデバイス応用 : 現状と展望
• SiGe(シリコンゲルマニウム)薄膜デバイスの研究状況と可能性
• Si ヘテロ超構造技術とそのデバイス応用

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