SiGe(シリコンゲルマニウム)薄膜デバイスの研究状況と可能性
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-12-25
著者
-
中川 清和
(株)日立製作所 中央研究所
-
半那 純一
東京工業大学 大学院理工学研究科 附属像情報工学研究施設
-
中川 清和
日立製作所中央研究所
-
三輪 浩之
ソニー株式会社厚木テクノロジーセンター
-
森川 武則
日本電気株式会社C&Cメディア研究所
-
森川 武則
日本電気株式会社c&cメディア研究所
-
半那 純一
東京工業大学大学院理工学研究科
-
半那 純一
東京工業大学 像情報工学研究所
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