半那 純一 | 東京工業大学 大学院理工学研究科 附属像情報工学研究施設
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概要
関連著者
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半那 純一
東京工業大学 大学院理工学研究科 附属像情報工学研究施設
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半那 純一
東京工業大学大学院理工学研究科
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半那 純一
東京工業大学 像情報工学研究所
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半那 純一
東京工業大学像情報工学研究所
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戸田 徹
東京工業大学 像情報工学研究施設
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谷 忠昭
東京工業大学 像情報工学研究施設
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舟橋 正浩
東京工業大学 大学院理工学研究科 附属像情報工学研究施設
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高屋敷 由紀子
東京工業大学・像情報工学施設
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舟橋 正浩
(独)産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門
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張 建軍
東京工業大学大学院理工学研究科附属像情報工学研究施設
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清水 耕作
東京工業大学像情報工学研究施設
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飯野 裕明
東京工業大学像情報工学研究施設
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清水 耕作
東京工業大学大学院理工学研究科附属像情報工学研究施設
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飯野 裕明
東京工業大学 像情報工学研究所
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舟橋 正浩
東京工業大学大学院理工学研究科像情報工学研究施設
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中川 清和
(株)日立製作所 中央研究所
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大野 玲
東京工業大学 像情報工学研究施設
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中川 清和
日立製作所中央研究所
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三輪 浩之
ソニー株式会社厚木テクノロジーセンター
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森川 武則
日本電気株式会社C&Cメディア研究所
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森川 武則
日本電気株式会社c&cメディア研究所
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竹内 知生
東京工業大学像情報工学研究施設
著作論文
- 液晶物質における電子伝導と材料設計
- 1C05 2-Phenylnaphthalene誘導体液晶材料の合成と光伝導性(3) : チオアルキル基の導入による液晶性と電荷輸特性(物理・物性)
- 液晶物質における伝導とTFTへの応用(特別ワークショップ:電子デバイスとしてみた有機トランジスタ・太陽電池の現状と展望)
- SiGe(シリコンゲルマニウム)薄膜デバイスの研究状況と可能性
- チオール修飾による金電極から液晶性有機半導体への正孔注入の促進と注入機構の研究
- 液晶物質に思いを込めて
- カラムナー相における電荷輸送
- 液晶性有機半導体 / 電極系における低電界オーム電流の解析
- 非晶質から非「非晶質」へ : 高品質な大面積半導体材料の開発に向けて
- 有機半導体材料
- 液晶性有機半導体における電極/液晶界面における電荷注入
- 技術に思う
- 反応性熱CVD法による多結晶Si_Ge_x薄膜の低温堆積とTFTへの応用(低温または高温多結晶Siとアクティブマトリックス型ディスプレイ用薄膜トランジスタ論文特集)
- 反応性熱 CVD 法による多結晶 Si_Ge_X 薄膜の低温たい積と TFT への応用
- 液晶性有機半導体 / 電極界面の電気特性と電子構造の研究
- 1A06 自己組織化単分子膜修飾電極による液晶性有機半導体への電荷注入の促進(トピカルセッション-分子配向が拓く有機エレクトロニクス-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 3A01 2-Phenylnaphthalene誘導体液晶材料の合成と光伝導性(4)(物理・物性)