反応性熱 CVD 法による多結晶 Si_<1-X>Ge_X 薄膜の低温たい積と TFT への応用
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概要
著者
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半那 純一
東京工業大学 大学院理工学研究科 附属像情報工学研究施設
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張 建軍
東京工業大学大学院理工学研究科附属像情報工学研究施設
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清水 耕作
東京工業大学像情報工学研究施設
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半那 純一
東京工業大学大学院理工学研究科
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清水 耕作
東京工業大学大学院理工学研究科附属像情報工学研究施設
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半那 純一
東京工業大学 像情報工学研究所
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