論文relation
Si ヘテロ超構造技術とそのデバイス応用
スポンサーリンク
概要
論文の詳細を見る
応用物理学会の論文
1992-11-10
著者
中川 清和
日立製作所中央研究所
宮尾 正信
日立製作所中央研究所
関連論文
SiGe固相成長による原子層レベル急峻ヘテロ界面の形成
SC-9-3 Siヘテロ超構造技術とデバイス応用 : 現状と展望
SiGe(シリコンゲルマニウム)薄膜デバイスの研究状況と可能性
Si ヘテロ超構造技術とそのデバイス応用
産業界から大学に望むこと(大学における実験系の研究室の活動について)
固相成長
スポンサーリンク
論文relation | CiNii API
論文
論文著者
博士論文
研究課題
研究者
図書
論文
著者
お問い合わせ
プライバシー