深町 俊彦 | 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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深町 俊彦
(株)日立製作所 中央研究所
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深町 俊彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所
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北谷 健
(株)日立製作所 中央研究所
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塩田 貴支
(株)日立製作所 中央研究所
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篠田 和典
(株)日立製作所中央研究所
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青木 雅博
(株)日立製作所中央研究所
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青木 雅博
(株)日立製作所 中央研究所
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篠田 和典
(株)日立製作所 中央研究所
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荒川 泰彦
東京大学ナノエレクトロニクス連携研究センター
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勝山 俊夫
(株)日立製作所・中央研究所
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細見 和彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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勝山 俊夫
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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深町 俊彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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勝山 俊夫
日立 中研
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所ncrc
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細見 和彦
東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所
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荒川 泰彦
東大生研
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荒川 泰彦
東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構:東大生産研
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荒川 泰彦
東大生研ncrc:東大先端研
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Arakawa Yasuhiko
Research Center For Advanced Science And Technology And Institute Of Industrial Science University O
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荒川 泰彦
東京大学先端科学技術研究センター・生産技術研究所
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荒川 泰彦
Institute For Nano Quantum Information Electronics The University Of Tokyo
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深町 俊彦
日立 中研
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山田 宏治
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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山田 宏治
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会
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荒川 泰彦
東大
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北谷 健
(株)日立製作所中央研究所
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佐久間 康
日本オプネクスト株式会社
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菅原 俊樹
(株)日立製作所中央研究所
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松岡 康信
(株)日立製作所中央研究所
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辻 伸二
(株)日立製作所中央研究所
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菅原 俊樹
(株)日立製作所 中央研究所
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菅原 俊樹
(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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辻 伸二
(株)日立製作所 中央研究所
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足立 光一朗
(株)日立製作所 中央研究所
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田中 滋久
日立中研
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松岡 康信
(株)日立製作所 中央研究所
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辻 伸二
技術研究組合光電子融合基盤技術研
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田中 慈久
日立製作所中央研究所
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足立 光一郎
(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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三田 玲英子
(株)日立製作所中央研究所
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田中 滋久
(株)日立製作所中央研究所
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牧野 茂樹
(株)日立製作所中央研究所
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篠田 和典
日立中央研究所
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北谷 健
株式会社日立製作所中央研究所
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篠田 和典
株式会社日立製作所中央研究所
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田中 滋久
(株)日立製作所 中央研究所
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三田 玲英子
(株)日立製作所 中央研究所
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笹田 紀子
日本オプネクスト株式会社設計開発本部
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直江 和彦
日本オプネクスト
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直江 和彦
日本オプネクスト(株)
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中原 宏治
株式会社日立製作所中央研究所
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北谷 健
日立製作所中央研究所
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中原 宏治
日立製作所 中央研究所
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笹田 紀子
日本オプネクスト株式会社
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牧野 茂樹
株式会社日立製作所 中央研究所
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坂 琢磨
(株)日立製作所中央研究所
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元田 勝也
日本オプネクスト株式会社
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岡本 薫
日本オプネクスト株式会社
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坂 琢磨
技術研究組合光電子融合基盤技術研
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深町 俊彦
日本オクラロ
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佐久間 康
日本オクラロ
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塩田 貴支
株式会社日立製作所中央研究所
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田中 滋久
株式会社日立製作所中央研究所
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牧野 茂樹
株式会社日立製作所中央研究所
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青木 雅博
株式会社日立製作所中央研究所
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深町 俊彦
株式会社日立製作所中央研究所
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笹田 紀子
日本オプネクスト
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若山 雄貴
株式会社日立製作所中央研究所
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比留間 健之
株式会社日立製作所中央研究所
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比留間 健之
日立製作所 中央研究所
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篠田 和典
日立製作所中央研究所
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直江 和彦
(株)日本オプネクスト
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笹田 紀子
(株)日本オプネクスト
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坂 塚磨
(株)日立製作所 中央研究所
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田中 滋
日立製作所
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岡本 薫
(株)日本オプネクスト
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元田 勝也
(株)日本オプネクスト
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佐久間 康
(株)日本オプネクスト
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北谷 健
(株)日立製作所中央研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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佐久間 康
日本オクラロ株式会社
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若山 雄貴
日立製作所中央研究所
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深町 俊彦
日本オクラロ株式会社
著作論文
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- SC-1-9 フォトニック結晶の分散制御と光素子への応用
- 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証
- C-4-11 1.3μm帯レンズ集積面出射型レーザによる光ファイバへの高効率直接光結合(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- C-4-8 膜厚差のあるInGaAlAs-InGaAsPバットジョイント接続の光損失評価(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般講演)
- 1.55μm帯InGaAlAs系EA/DFBレーザによる広温度範囲10Gbit/s-40km/80kmファイバ伝送(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
- 1.55μm帯InGaAlAs系EA/DFBレーザによる広温度範囲10Gbit/s-40km/80kmファイバ伝送(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
- 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
- C-4-15 InGaAlAs系EA/DFBレーザによる15℃-95℃,10Gbit/s-80km伝送(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般講演)
- C-4-1 28Gbls直接変調InGaAIAs ACPM DFBレーザ(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- 非対称周期変調型回折格子を有する1.3μm帯DFBレーザにおける28Gbps高マスクマージン直接変調動作(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 非対称周期変調型回折格子を有する1.3μm帯DFBレーザにおける28Gbps高マスクマージン直接変調動作(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)