田中 滋久 | 株式会社日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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田中 滋久
株式会社日立製作所中央研究所
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中原 宏治
株式会社日立製作所中央研究所
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北谷 健
株式会社日立製作所中央研究所
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篠田 和典
株式会社日立製作所中央研究所
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田中 滋久
(株)日立製作所中央研究所
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中原 宏治
日立製作所 中央研究所
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北谷 健
(株)日立製作所 中央研究所
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田中 滋久
(株)日立製作所 中央研究所
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田中 慈久
日立製作所中央研究所
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笹田 紀子
日本オプネクスト株式会社設計開発本部
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直江 和彦
日本オプネクスト
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塩田 貴支
株式会社日立製作所中央研究所
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林 宏暁
株式会社日立製作所中央研究所
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牧野 茂樹
株式会社日立製作所中央研究所
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青木 雅博
株式会社日立製作所中央研究所
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笹田 紀子
日本オプネクスト株式会社
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牧野 茂樹
株式会社日立製作所 中央研究所
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林 宏暁
株式会社日立製作所 中央研究所
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笹田 紀子
日本オプネクスト
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深町 俊彦
日本オクラロ
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若山 雄貴
株式会社日立製作所中央研究所
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工藤 真
日立製作所中央研究所
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直江 和彦
日本オプネクスト(株)
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(株)日立製作所 中央研究所
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塩田 貴支
(株)日立製作所 中央研究所
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谷口 隆文
(株)日立製作所中央研究所
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内山 博幸
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谷口 隆文
株式会社日立製作所中央研究所
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藤崎 寿美子
日立製作所中央研究所
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(株)日立製作所中央研究所
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近藤 正彦
株式会社日立製作所中央研究所
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藤崎 寿美子
株式会社日立製作所中央研究所
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工藤 真
株式会社日立製作所中央研究所
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寺野 昭久
株式会社日立製作所中央研究所
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近藤 正彦
日立製作所中央研究所:(現)大阪大学 大学院工学研究科
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北谷 健
日立製作所中央研究所
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北谷 健
(株)日立製作所中央研究所
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牧野 茂樹
(株)日立製作所中央研究所
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篠田 和典
日立中央研究所
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青木 雅博
(株)日立製作所 中央研究所
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篠田 和典
(株)日立製作所 中央研究所
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中原 宏治
(株)日立製作所中央研究所
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深町 俊彦
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田中 滋久
日立中研
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佐久間 康
日本オプネクスト株式会社
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深町 俊彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所
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佐久間 康
日本オクラロ
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比留間 健之
株式会社日立製作所中央研究所
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青木 雅博
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日本オクラロ(株)
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直江 和彦
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早川 茂則
日本オクラロ(株)
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魚見 和久
日本オクラロ(株)
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日本オクラロ株
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元田 勝也
日本オクラロ(株)
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深町 俊彦
日本オクラロ株式会社
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鷲野 隆
日本オクラロ(株)
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魚見 和久
日本オクラロ株式会社
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中島 崇之
日本オクラロ株式会社
-
向久保 優
日本オクラロ株式会社
著作論文
- 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- GaInNAsレーザ : GaInNAsレーザの現状と課題(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
- [招待講演]GaInNAsレーザ : GaInNAsレーザの現状と課題(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
- 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- 非対称周期変調型回折格子を有する1.3μm帯DFBレーザにおける28Gbps高マスクマージン直接変調動作(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- 非対称周期変調型回折格子を有する1.3μm帯DFBレーザにおける28Gbps高マスクマージン直接変調動作(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- C-4-2 1.3μm帯InGaAlAs系直接変調DFBレーザの28Gbps無温調動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)