篠田 和典 | 株式会社日立製作所中央研究所

スポンサーリンク

概要

• 篠田 和典の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 株式会社日立製作所中央研究所の論文著者

関連著者

• 篠田 和典

  株式会社日立製作所中央研究所

• 北谷 健

  株式会社日立製作所中央研究所

• 笹田 紀子

  日本オプネクスト株式会社設計開発本部

• 直江 和彦

  日本オプネクスト

• 塩田 貴支

  株式会社日立製作所中央研究所

• 篠田 和典

  (株)日立製作所中央研究所

• 田中 滋久

  株式会社日立製作所中央研究所

• 牧野 茂樹

  株式会社日立製作所中央研究所

• 青木 雅博

  株式会社日立製作所中央研究所

• 笹田 紀子

  日本オプネクスト株式会社

• 牧野 茂樹

  株式会社日立製作所 中央研究所

• 篠田 和典

  (株)日立製作所 中央研究所

• 笹田 紀子

  日本オプネクスト

• 直江 和彦

  日本オプネクスト(株)

• 塩田 貴支

  (株)日立製作所 中央研究所

• 牧野 茂樹

  (株)日立製作所中央研究所

• 北谷 健

  (株)日立製作所 中央研究所

• 青木 雅博

  (株)日立製作所 中央研究所

• 深町 俊彦

  (株)日立製作所 中央研究所

• 佐久間 康

  日本オプネクスト株式会社

• 深町 俊彦

  東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所

• 篠田 和典

  日立中央研究所

• 青木 雅博

  (株)日立製作所中央研究所

• 林 宏暁

  株式会社日立製作所中央研究所

• 林 宏暁

  株式会社日立製作所 中央研究所

• 田中 滋久

  (株)日立製作所中央研究所

• 中原 宏治

  株式会社日立製作所中央研究所

• 北谷 健

  日立製作所中央研究所

• 北谷 健

  (株)日立製作所中央研究所

• 中原 宏治

  日立製作所 中央研究所

• 田中 滋久

  (株)日立製作所 中央研究所

• 元田 勝也

  日本オプネクスト株式会社

• 深町 俊彦

  株式会社日立製作所中央研究所

• 岡本 薫

  日本オプネクスト株式会社

• 田中 慈久

  日立製作所中央研究所

• 深町 俊彦

  日立 中研

• 深町 俊彦

  日本オクラロ

• 佐久間 康

  日本オクラロ

• 若山 雄貴

  株式会社日立製作所中央研究所

• 比留間 健之

  株式会社日立製作所中央研究所

• 菅原 俊樹

  (株)日立製作所中央研究所

• 松岡 康信

  (株)日立製作所中央研究所

• 辻 伸二

  (株)日立製作所中央研究所

• 李 英根

  技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 菅原 俊樹

  (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 辻 伸二

  (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 足立 光一朗

  (株)日立製作所 中央研究所

• 川村 大地

  (株)日立製作所中央研究所

• 菅原 俊樹

  株式会社日立製作所中央研究所

• 松岡 康信

  株式会社日立製作所中央研究所

• 辻 伸二

  株式会社日立製作所中央研究所

• 辻 伸二

  技術研究組合光電子融合基盤技術研

• 李 英根

  株式会社日立製作所中央研究所

• 川村 大地

  株式会社日立製作所中央研究所

• 足立 光一朗

  株式会社日立製作所中央研究所

• 足立 光一郎

  (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 李 英根

  光電子融合基盤技術研究所:日立製作所

• 深町 俊彦

  日本オクラロ株式会社

もっと見る 閉じる

著作論文

• 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• 1.55μm帯InGaAlAs系EA/DFBレーザによる広温度範囲10Gbit/s-40km/80kmファイバ伝送(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
• 1.55μm帯InGaAlAs系EA/DFBレーザによる広温度範囲10Gbit/s-40km/80kmファイバ伝送(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
• 次世代ITシステムに向けた高速光インタコネクト技術
• 非対称周期変調型回折格子を有する1.3μm帯DFBレーザにおける28Gbps高マスクマージン直接変調動作(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
• 非対称周期変調型回折格子を有する1.3μm帯DFBレーザにおける28Gbps高マスクマージン直接変調動作(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)

スポンサーリンク