塩田 貴支 | 株式会社日立製作所中央研究所

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概要

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• 株式会社日立製作所中央研究所の論文著者

関連著者

• 塩田 貴支

  株式会社日立製作所中央研究所

• 笹田 紀子

  日本オプネクスト株式会社設計開発本部

• 直江 和彦

  日本オプネクスト

• 塩田 貴支

  (株)日立製作所 中央研究所

• 牧野 茂樹

  株式会社日立製作所中央研究所

• 北谷 健

  株式会社日立製作所中央研究所

• 篠田 和典

  株式会社日立製作所中央研究所

• 青木 雅博

  株式会社日立製作所中央研究所

• 笹田 紀子

  日本オプネクスト株式会社

• 牧野 茂樹

  株式会社日立製作所 中央研究所

• 笹田 紀子

  日本オプネクスト

• 直江 和彦

  日本オプネクスト(株)

• 篠田 和典

  (株)日立製作所中央研究所

• 牧野 茂樹

  (株)日立製作所中央研究所

• 青木 雅博

  (株)日立製作所 中央研究所

• 篠田 和典

  (株)日立製作所 中央研究所

• 田中 滋久

  株式会社日立製作所中央研究所

• 青木 雅博

  (株)日立製作所中央研究所

• 林 宏暁

  株式会社日立製作所中央研究所

• 林 宏暁

  株式会社日立製作所 中央研究所

• 田中 滋久

  (株)日立製作所中央研究所

• 北谷 健

  (株)日立製作所中央研究所

• 篠田 和典

  日立中央研究所

• 北谷 健

  (株)日立製作所 中央研究所

• 深町 俊彦

  (株)日立製作所 中央研究所

• 田中 滋久

  (株)日立製作所 中央研究所

• 佐久間 康

  日本オプネクスト株式会社

• 元田 勝也

  日本オプネクスト株式会社

• 深町 俊彦

  株式会社日立製作所中央研究所

• 岡本 薫

  日本オプネクスト株式会社

• 田中 慈久

  日立製作所中央研究所

• 深町 俊彦

  東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所

• 深町 俊彦

  日立 中研

• 田中 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 望月 和浩

  (株)日立製作所 中央研究所

• 内山 博幸

  (株)日立製作所 中央研究所

• 谷口 隆文

  (株)日立製作所中央研究所

• 田窪 千咲紀

  株式会社日立製作所中央研究所

• 望月 和浩

  株式会社日立製作所中央研究所

• 田中 健一

  株式会社日立製作所中央研究所

• 内山 博幸

  株式会社日立製作所中央研究所

• 谷口 隆文

  株式会社日立製作所中央研究所

• 田窪 千咲紀

  (株)日立製作所 中央研究所

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著作論文

• 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• InGaP/GaAsコレクタトップHBTへの裏面放熱エミッタ電極形成技術(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
• 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• 43-Gbps高速EA/DFBレーザのアンクールド動作(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• 1.55μm帯InGaAlAs系EA/DFBレーザによる広温度範囲10Gbit/s-40km/80kmファイバ伝送(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)
• 1.55μm帯InGaAlAs系EA/DFBレーザによる広温度範囲10Gbit/s-40km/80kmファイバ伝送(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,及び一般)

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