菅原 俊樹 | (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

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概要

• 同名の論文著者
• (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会の論文著者

関連著者

• 菅原 俊樹

  (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 菅原 俊樹

  (株)日立製作所中央研究所

• 菅原 俊樹

  (株)日立製作所 中央研究所

• 松岡 康信

  (株)日立製作所中央研究所

• 松岡 康信

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• 辻 伸二

  (株)日立製作所中央研究所

• 辻 伸二

  (株)日立製作所 中央研究所

• 足立 光一朗

  (株)日立製作所 中央研究所

• 足立 光一郎

  (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 辻 伸二

  技術研究組合光電子融合基盤技術研

• 篠田 和典

  (株)日立製作所中央研究所

• 辻 伸二

  (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 篠田 和典

  (株)日立製作所 中央研究所

• 篠田 和典

  日立中央研究所

• 北谷 健

  (株)日立製作所 中央研究所

• 川村 大地

  (株)日立製作所中央研究所

• 北谷 健

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• 三田 玲英子

  (株)日立製作所 中央研究所

• 李 英根

  光電子融合基盤技術研究所:日立製作所

• 三田 玲英子

  (株)日立製作所中央研究所

• 李 英根

  技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 中條 徳男

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 李 英根

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• 中條 徳男

  (株)日立製作所

• 北谷 健

  (株)日立製作所中央研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 高井 俊明

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 北谷 健

  日立製作所中央研究所

• 濱村 沙織

  (株)日立製作所横浜研究所

• 田中 滋久

  (株)日立製作所中央研究所

• 青木 雅博

  (株)日立製作所中央研究所

• 菅原 俊樹

  株式会社日立製作所中央研究所

• 松岡 康信

  株式会社日立製作所中央研究所

• 塩田 貴支

  (株)日立製作所 中央研究所

• 青木 雅博

  (株)日立製作所 中央研究所

• 田中 滋久

  (株)日立製作所 中央研究所

• 田中 慈久

  日立製作所中央研究所

• 高井 俊明

  (株)日立製作所横浜研究所

• 坂 卓磨

  (株)日立製作所中央研究所

• 古後 健治

  日立製作所中央研究所

• 深町 俊彦

  (株)日立製作所 中央研究所

• 田中 滋久

  日立中研

• 坂 卓磨

  (株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 辻 伸二

  株式会社日立製作所中央研究所

• 古後 健治

  (株)日立製作所 中央研究所システムLSI研究部

• 山下 寛樹

  (株)日立製作所中央研究所

• 竹本 享史

  (株)日立製作所中央研究所

• 細見 和彦

  東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 柴田 智章

  日立化成工業株式会社筑波総合研究所

• 深町 俊彦

  東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所

• 竹本 亨史

  (株)日立製作所中央研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 山下 寛樹

  日立製作所中央研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 佐川 みすず

  (株)日立製作所中央研究所

• 佐川 みすず

  東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 山下 寛樹

  日立中研

• 坂 琢磨

  (株)日立製作所中央研究所

• 濱村 沙織

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 牧尾 諭

  日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所

• 高橋 敦之

  日立化成工業(株)先端材料開発研究所

• 牧尾 諭

  日立金属株式会社先端エレクトロニクス研究所

• 深町 俊彦

  日立 中研

• 李 英根

  株式会社日立製作所中央研究所

• 川村 大地

  株式会社日立製作所中央研究所

• 細見 和彦

  (株)日立製作所基礎研究所

• 増田 宏

  日立化成工業(株)先端材料開発研究所

• 高橋 敦之

  日立化成工業(株)先端材料研究所

• 足立 光一郎

  (株)日立製作所中央研究所

• 坂 琢磨

  技術研究組合光電子融合基盤技術研

• 細見 和彦

  (株)日立製作所中央研究所

• 中條 徳男

  株式会社日立製作所生産技術研究所

• 佐川 みすず

  日立 中研

• 高井 俊明

  株式会社日立製作所横浜研究所

• 足立 光一郎

  株式会社日立製作所中央研究所

• 古後 健治

  株式会社日立製作所中央研究所

• 濱村 沙織

  株式会社日立製作所横浜研究所

• 竹本 享史

  株式会社日立製作所中央研究所

• 山下 寛樹

  株式会社日立製作所中央研究所

• 松嶋 直樹

  株式会社日立製作所研究開発本部

• 荒川 泰彦

  東京大学ナノエレクトロニクス連携研究センター

• 松嶋 直樹

  株式会社日立製作所生産技術研究所

• 高橋 誠

  (株)日立製作所中央研究所

• 高橋 誠

  上白根病院外科

• 勝山 俊夫

  (株)日立製作所・中央研究所

• 細見 和彦

  東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター

• 佐川 みすず

  東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター

• 勝山 俊夫

  東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター

• 荒川 泰彦

  東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター

• 五島 滋雄

  東京大学生産技術研究所NCRC

• 勝山 俊夫

  日立 中研

• 荒川 泰彦

  東京大学生産技術研究所ncrc

• 田中 健一

  (株)日立製作所中央研究所

• 荒川 泰彦

  東大

• 崎川 幸夫

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 秦 昌平

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 牧野 茂樹

  (株)日立製作所中央研究所

• 土屋 朋信

  (株)日立製作所中央研究所

• 荒川 泰彦

  東京大学生産技術研究所

• 荒川 泰彦

  東大生研

• 荒川 泰彦

  1995 1996年度エレクトロニクスソサイエティ和文論文誌編集委員会

• 斎藤 慎一

  株式会社日立製作所中央研究所

• 荒川 泰彦

  東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構:東大生産研

• 荒川 泰彦

  東大生研ncrc:東大先端研

• Arakawa Yasuhiko

  Research Center For Advanced Science And Technology And Institute Of Industrial Science University O

• 荒川 泰彦

  東京大学先端科学技術研究センター・生産技術研究所

• 秦 昌平

  (株)日立製作所 生産技術研究所 実装ソリューション研究部

• 五島 滋雄

  東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会

• 高橋 誠

  (株)日立製作所 中央研究所

• 斎藤 慎一

  株式会社日立製作所中央研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 荒川 泰彦

  Institute For Nano Quantum Information Electronics The University Of Tokyo

• 西村 信治

  (株)日立製作所中央研究所

• 西村 信治

  日立製作所中央研究所

• 菊池 信彦

  (株)日立製作所 中央研究所

• 牧尾 論

  日立金属株式会社先端エレクトロニクス研究所

• 佐野 博久

  日立金属株式会社先端エレクトロニクス研究所

• 宍倉 正人

  (株)日立製作所中央研究所

• 齊藤 達也

  (株)日立製作所中央研究所

• 齋藤 達也

  (株)日立製作所中央研究所

• 結城 文夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 北 雅人

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 吉岡 博之

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 穴倉 正人

  (株)日立製作所中央研究所

• 西村 信治

  日立中研

• 宍倉 正人

  日本オプネクスト株式会社

• 齊藤 達也

  (株)日立製作所 中央研究所

• 大野 聖信

  鹿児島大学

• 大畠 賢一

  鹿児島大学

• 篠田 和典

  株式会社日立製作所中央研究所

• 西 邦彦

  (株)日立製作所

• 宍倉 正人

  日本オプネクスト(株)

• 河野 勉

  (株)日立製作所モノづくり技術事業部

• 西 邦彦

  (株)日立製作所モノづくり技術事業部

• 齋藤 達也

  (株)日立製作所 中央研究所

• 坂 塚磨

  (株)日立製作所 中央研究所

• 松嶋 直樹

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 手呂内 俊郎

  (株)日立製作所モノづくり技術事業部

• 柴田 智章

  日本化成工業(株)筑波総合研究所

• 増田 宏

  日本化成工業(株)筑波総合研究所

• 高橋 敦之

  日本化成工業(株)筑波総合研究所

• 浜村 沙織

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 宍倉 正人

  (株)日立製作所 中央研究所

• 結城 文男

  (株)日立製作所中央研究所

• 山下 寛樹

  (株)日立製作所中央研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

• 川俣 常雄

  (株)日立製作所マイクロデバイス事業部

• 足立 光一朗

  株式会社日立製作所中央研究所

• 古後 健次

  (株)日立製作所中央研究所

• 西村 信治

  光電子融合基盤技術研究所:日立製作所

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著作論文

• 大容量情報処理装置向け高密度光インターコネクション技術
• C-3-80 高屈折率エタロンを用いた斜め反射型可変分散補償器(補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-24 超小型PD集積型1次元フォトニック結晶分散補償モジュール(フォトニック結晶ファイバ・素子,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-81 1次元結合欠陥型フォトニック結晶分散補償器(補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• BS-10-2 ボード内・間光インターコネクション技術の取り組み(BS-10.光スイッチング・光インターコネクション・光LAN技術〜ラック間・ボード間・チップ間光ネットワークへ〜,シンポジウムセッション)
• 10Gbps光アクセスシステムに向けた3D-CSPモジュールの基礎検討 : モジュール試作とその送受信特性
• 高効率光IFを有する高密度(480Gbit/s/cm^2)光プリント回路基板(先端電子デバイスパッケージと高密度実装における評価・解析技術論文)
• 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証
• C-4-11 1.3μm帯レンズ集積面出射型レーザによる光ファイバへの高効率直接光結合(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-63 小型100-GbE Quadplex光受信器(アクティブモジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• OFC/NFOEC 2010報告 : アクティブモジュール/デバイス関連(光波ネットワーク・光アクセスに向けた光波デバイス,光集積回路,一般(OFC報告))
• OFC/NFOEC 2010報告 : アクティブモジュール/デバイス関連(光変復調方式,多値光変復調,コヒーレント光通信,光増幅・中継技術,非線形・偏波問題,コア・メトロシステム,海底伝送システム,光伝送システム設計・ツール,一般(OFC報告))
• 短距離光リンク用1.3μm帯25Gb/s面型DFBレーザのモノリシックレンズ集積技術(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
• 短距離光リンク用1.3μm帯25Gb/s面型DFBレーザのモノリシックレンズ集積技術(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
• 短距離光リンク用1.3μm帯25Gb/s面型DFBレーザのモノリシックレンズ集積技術(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
• 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• C-3-64 シリコンベース光合分波器を用いた10Gbps小型一芯双方向光モジュール(アクティブモジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-60 高効率光I/Oを有する20Gbps超高速光プリント配線基板(光インターコネクション,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-58 高速,低ノイズFPC複合フレキシブル光導波路光インターフェース(光インターコネクション,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-1 高効率光I/0を有する10Gbps並列光インターコネクション(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-83 高効率光結合を有する160Gbps小型光I/Oモジュール(光インターコネクション(1),C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
• レンズ集積技術を用いた1.3μm帯面型レーザおよびフォトダイオードの高効率ファイバ結合(半導体レーザ関連技術,及び一般)
• C-3-48 エタロン斜め反射型可変分散補償器の分散量拡大方法(光ファイバ・ファイバグレーティング・補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-43 20Gbps超級光インタコネクト向けチップスケール光素子実装(光インターコネクション・光モジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-45 レンズ集積型レーザとCMOS回路を用いた低電力光配線向け20Gbps光送信I/Oモジュール(光インターコネクション・光モジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-44 低電力光I/O搭載光プリント回路基板の20Gbps高速光信号伝送(光インターコネクション・光モジュール,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• 光配線技術の研究動向と将来展望(光配線と高速伝送技術,デザインガイア2010-VLSI設計の新しい大地-)
• 光配線技術の研究動向と将来展望(光配線と高速伝送技術,デザインガイア2010-VLSI設計の新しい大地)
• C-4-1 1.3μm帯レンズ集積型面出射レーザの広温度範囲25Gbps直接変調動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• CS-5-2 短距離伝送用送受信デバイスの開発動向(CS-5.新たな転機を迎えた通信用送受信デバイスの動向,シンポジウムセッション)
• 応用の幅を広げる半導体レーザ技術
• CI-2-5 レンズ集積光素子を用いた20Gbps高速・低電力光配線ボード(CI-2.家庭内ネットワーク〜インターコネクションに向けた短距離・高速光通信用デバイス・コンポーネント技術,依頼シンポジウム,シンポジウムセッション)
• 1.3μm帯直接変調レーザの広範囲25Gbps無温調動作の実証
• BCS-2-5 エタロンを用いた可変分散補償器(BCS-2.超高速光通信システムの鍵を握る分散補償技術,シンポジウム)
• BCS-2-5 エタロンを用いた可変分散補償器(BCS-2.超高速光通信システムの鍵を握る分散補償技術,シンポジウム)
• C-3-102 エタロン斜め反射型可変分散補償器(C-3. 光エレクトロニクス(分散補償), エレクトロニクス1)
• 応用の幅を広げる半導体レーザ技術
• C-4-19 1.3μm帯4波長面出射DFBレーザアレイの高温25Gbit/s動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-20 光インターコネクション用低電力25Gbps/ch 1.3μm帯光モジュール(光インターコネクション,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• 三次元モジュール構造及び相互結合インダクタ型ドライバ回路を用いた20Gbit/s光送信モジュール(電子デバイスの高速・高密度実装とインテグレーション技術論文)
• 25Gb/s多波長面型DFBレーザアレイ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 25Gb/s多波長面型DFBレーザアレイ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 25Gb/s多波長面型DFBレーザアレイ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 25Gb/s多波長面型DFBレーザアレイ(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
• 次世代ITシステムに向けた高速光インタコネクト技術
• レンズ集積光素子とCMOS回路を用いた光インターコネクション用25Gbit/s光送受信モジュール(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• レンズ集積光素子とCMOS回路を用いた光インターコネクション用25Gbit/s光送受信モジュール(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• レンズ集積光素子とCMOS回路を用いた光インターコネクション用25Gbit/s光送受信モジュール(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• C-4-6 光インタコネクト用1.3μm帯レンズ集積EA-DFBレーザによる40-Gbit/s/ch 50mマルチモードファイバ伝送(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• C-4-2 1.3μm帯面出射DFBレーザの高温28Gbit/s動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-31 光インタコネクト用EA-DFBレーザの40Gbps/ch低電圧動作(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

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