山田 宏治 | 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会
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概要
関連著者
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荒川 泰彦
東京大学ナノエレクトロニクス連携研究センター
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勝山 俊夫
(株)日立製作所・中央研究所
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細見 和彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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山田 宏治
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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勝山 俊夫
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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勝山 俊夫
日立 中研
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所ncrc
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山田 宏治
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会
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細見 和彦
東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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荒川 泰彦
東大
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所
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荒川 泰彦
東大生研
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荒川 泰彦
東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構:東大生産研
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荒川 泰彦
東大生研ncrc:東大先端研
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Arakawa Yasuhiko
Research Center For Advanced Science And Technology And Institute Of Industrial Science University O
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荒川 泰彦
東京大学先端科学技術研究センター・生産技術研究所
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荒川 泰彦
Institute For Nano Quantum Information Electronics The University Of Tokyo
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深町 俊彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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深町 俊彦
(株)日立製作所 中央研究所
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深町 俊彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所
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赤松 正二
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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佐川 みすず
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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佐川 みすず
(株)日立製作所中央研究所
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佐川 みすず
東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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赤松 正二
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会
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荒川 泰彦
1995 1996年度エレクトロニクスソサイエティ和文論文誌編集委員会
著作論文
- 高アスペクト比ドライエッチング技術を用いて作製したシリコンフォトニック結晶デバイス(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)