勝山 俊夫 | 日立 中研
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概要
関連著者
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勝山 俊夫
日立 中研
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勝山 俊夫
(株)日立製作所・中央研究所
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細見 和彦
東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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荒川 泰彦
東京大学ナノエレクトロニクス連携研究センター
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細見 和彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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勝山 俊夫
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所ncrc
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荒川 泰彦
東京大学生産技術研究所
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荒川 泰彦
東大生研
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荒川 泰彦
東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構:東大生産研
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荒川 泰彦
東大生研ncrc:東大先端研
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Arakawa Yasuhiko
Research Center For Advanced Science And Technology And Institute Of Industrial Science University O
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荒川 泰彦
東京大学先端科学技術研究センター・生産技術研究所
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荒川 泰彦
Institute For Nano Quantum Information Electronics The University Of Tokyo
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荒川 泰彦
東大
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山田 宏治
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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深町 俊彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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山田 宏治
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会
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深町 俊彦
(株)日立製作所 中央研究所
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深町 俊彦
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所
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白井 正敬
日立製作所中央研究所
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小川 憲介
(株)日立製作所 中央研究所
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小川 憲介
日立 中研
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比留間 健之
(株)日立製作所・中央研究所
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細見 和彦
日立製作所基礎研究所
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勝山 俊夫
日立製作所基礎研究所
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勝山 俊夫
日立中研
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佐川 みすず
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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重田 淳二
日立製作所 中央研究所
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佐川 みすず
(株)日立製作所中央研究所
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佐川 みすず
東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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荒川 泰彦
1995 1996年度エレクトロニクスソサイエティ和文論文誌編集委員会
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五島 滋雄
東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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菅原 俊樹
(株)日立製作所中央研究所
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矢沢 正光
(株)日立製作所・中央研究所
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五島 滋雄
東京大学生産技術研究所NCRC
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細見 和彦
(株)日立製作所基礎研究所
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比留間 健之
日立製作所 中央研究所
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菅原 俊樹
(株)日立製作所 中央研究所
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菅原 俊樹
(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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細見 和彦
(株)日立製作所中央研究所
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佐川 みすず
日立 中研
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原口 恵一
(株)日立製作所・中央研究所
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赤松 正二
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター
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波多野 睦子
日立製作所 中央研究所
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小川 健介
日立製作所 中央研究所
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三島 友義
日立製作所 中央研究所
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白井 正敬
(株)日立製作所 中央研究所
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重田 淳二
(株)日立製作所 中央研究所
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小川 憲介
日立中研
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波多野 睦子
日立製作所
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赤松 正二
東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会
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三島 友義
日立中央研究所
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波多野 睦子
(株)日立製作所 中央研究所
著作論文
- GaAs, InAsナノウィスカーの成長と物性
- 高アスペクト比ドライエッチング技術を用いて作製したシリコンフォトニック結晶デバイス(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
- C-3-24 超小型PD集積型1次元フォトニック結晶分散補償モジュール(フォトニック結晶ファイバ・素子,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-81 1次元結合欠陥型フォトニック結晶分散補償器(補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- フォトニック結晶を用いた光通信用分散補償素子 (特集/第20回テクノフェスタ)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- SC-1-9 フォトニック結晶の分散制御と光素子への応用
- 励起子ポラリトンの素子応用 : 極微細光・電子融合デバイス実現をめざして
- 量子波スイッチング機能素子の研究開発--10年間の成果と今後の展望 (特集 量子化機能素子プロジェクト)
- ポラリトン光変調器の動作特性
- 量子井戸導波路における励起子ポラリトン
- グレーティング付き光導波路中の励起子ポラリトン
- 励起子ポラリトンの素子応用の可能性
- 3)励起子ポラリトンの基礎と応用(情報入力研究会)
- 6a-B-4 GaAs量子井戸光導波路からの励起子発光
- 6a-B-3 GaAs量子井戸光導波路における光パルス相関
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- 一次元フォトニック結晶の作製と応用(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- ポラリトン光変調器の動作特性