波多野 睦子 | (株)日立製作所 中央研究所
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概要
関連著者
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波多野 睦子
日立製作所
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波多野 睦子
(株)日立製作所 中央研究所
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波多野 睦子
(株)日立製作所
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小川 健介
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小川 憲介
(株)日立製作所 中央研究所
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小川 憲介
日立 中研
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勝山 俊夫
日立 中研
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昆野 康隆
日立製作所
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宮沢 敏夫
日立ディスプレイズ
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GRIGOROPOULOS Costa
Department of Mechanical Engineering, University of California
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GRIGOROPOULOS Costas
Department of Mechanical Engineering, University of California
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Grigoropoulos Costas.P
Department of Mechanical Engineering, University of California
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細見 和彦
東京大学生産技術研究所ncrc:(株)日立製作所中央研究所:(財)光産業技術振興協会
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Grigoropoulos Costa
Department Of Mechanical Engineering University Of California
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宮沢 敏夫
日立 ディスプレイグループ
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三島 友義
日立中央研究所
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Grigoropoulos Costas
Department Of Mechanical Engineering University Of California
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Grigoropoulos Costas.p
Department Of Mechanical Engineering University Of California
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Department Of Mechanical Engineering University Of California
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Department Of Mechanical Engineering University Of California
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波多野 睦子
日立製作所・中央研究所
著作論文
- グレーティング付き光導波路中の励起子ポラリトン
- Si系薄膜光センサデバイス(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般)
- 日立製作所のジェンダー・フリー&ファミリー・フレンドリー・プランとダイバーシチを生かした/に生かす研究開発(男女共同参画のページ)
- レーザアニールによるSi 薄膜溶融, 結晶化過程の実時間観測と結晶の高品質化
- パルス変調CWレーザ結晶化(SELAX)法による高移動度低温ポリSi-TFT(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
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- レーザーアニールによるSi薄膜溶融, 結晶化過程に基づく高性能poly-Si結晶化技術
- SID'02報告 : Display Manufacturing(SID'02報告会)
- SID'02報告 Display Manfacturing
- レーザアニールによるSi薄膜の溶融、結晶化過程の実時間観測
- システム・イン・ディスプレイに向けた擬似単結晶シリコンTFT技術 (特集 電子ディスプレイ「新技術」をいち早く掴む--有機ELディスプレイ,製造プロセス・材料の最新成果)
- SiO_2基板上の非晶質Si/Ge積層構造におけるGe拡散と結晶化過程
- パルス変調CWレーザ結晶化(SELAX)法による高移動度低温ポリSi-TFT(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
- レーザアニールによるSi薄膜の溶融、結晶化過程の実時間観測
- レーザアニールによるSi薄膜の溶融、結晶化過程の実時間観測
- SiO_2基板上の非晶質Si/Ge積層構造におけるGe拡散と結晶化過程