芝 健夫 | (株)日立製作所中央研究所

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概要

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関連著者

• 芝 健夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 波多野 睦子

  日立製作所

• 田井 光春

  (株)日立製作所中央研究所

• 波多野 睦子

  (株)日立製作所 中央研究所

• 田井 光春

  日立製作所中央研究所

• 玉置 洋一

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 芝 健夫

  日立製作所中央研究所

• 菊池 俊之

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 島本 裕巳

  日立デバイス

• 島本 裕巳

  ルネサス北日本セミコンダクタ

• 波多野 睦子

  日立製作所 中央研究所

• 田井 光春

  日立製作所

• 山口 伸也

  日立製作所中央研究所

• 朴 成基

  日立製作所中央研究所

• 菊池 俊之

  (株)日立国際電気

• 朴 成基

  日立製作所・中央研究所

• 山口 伸也

  日立製作所・中央研究所

• 大倉 理

  (株)日立製作所 中央研究所

• 豊田 善章

  (株)日立製作所 中央研究所

• 内野 俊

  (株)日立製作所中央研究所

• 和田 真一郎

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 安藤 正彦

  日立ケンブリッジ研究所

• 鎌田 俊英

  筑波大院

• 鎌田 俊英

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 後藤 康

  (株)日立製作所中央研究所

• 波多野 睦子

  (株)日立製作所

• GRIGOROPOULOS Costa

  Department of Mechanical Engineering, University of California

• 菊池 俊之

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 和田 慎一郎

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 玉置 洋一

  日立製作所 デバイス開発センタ

• 後藤 康

  (株)日立製作所 中央研究所

• 糸賀 敏彦

  (株)日立製作所 中央研究所

• 栗谷川 武

  (株)日立製作所 中央研究所

• 橋本 尚

  (株)日立製作所 マイクロデバイス事業部

• 大西 和博

  (株)日立製作所中央研究所

• 大西 和博

  (株)日立製作所

• Grigoropoulos Costa

  Department Of Mechanical Engineering University Of California

• 植村 聖

  産業技術総合研究所光技術研究部門

• 川崎 昌宏

  (株)日立製作所中央研究所

• 今関 周治

  (株)日立製作所中央研究所

• 廣田 昇一

  (株)日立製作所材料研究所

• 新井 唯

  (株)日立製作所中央研究所

• 夏目 穣

  旭化成(株)

• 南方 尚

  旭化成(株)

• 植村 聖

  独立行政法人産業技術研究所

• 鎌田 俊英

  独立行政法人産業技術研究所

• 今関 周治

  (株)日立製作所

• 清田 幸弘

  日立

• 廣田 昇一

  (株)日立製作所 材料研究所

• 廣田 昇一

  (株)日立製作所日立研究所

• 宮内 昭浩

  (株)日立製作所日立研究所

• 内野 俊

  日立製作所中央研究所

• 渡辺 篤雄

  日立製作所デバイス開発センタ

• 清田 幸弘

  日立製作所中央研究所

• 本多 光晴

  日立製作所デバイス開発センタ

• 宮内 昭浩

  日立 日立研

• 島本 裕己

  日立デバイスエンジニアリング

• 鎌田 俊英

  産業技術総合研究所技術研究部門

• 鎌田 俊英

  独立行政法人 産業技術総合研究所 光技術研究部門 有機半導体デバイスグループ

• 宮内 昭浩

  (株)日立製作所中央研究所

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著作論文

• レーザアニールによるSi 薄膜溶融, 結晶化過程の実時間観測と結晶の高品質化
• パルス変調CWレーザ結晶化(SELAX)法による高移動度低温ポリSi-TFT(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
• パルス変調CWレーザ結晶化(SELAX)法による高移動度低温ポリSi-TFT(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
• システム・イン・ディスプレイに向けた擬似単結晶シリコンTFT技術 (特集 電子ディスプレイ「新技術」をいち早く掴む--有機ELディスプレイ,製造プロセス・材料の最新成果)
• Gate-Overlapped LDD構造による低温Poly-Si TFTの高信頼化技術
• ポリシリコンTFTのパルス電圧ストレスによる劣化機構
• パルス変調CWレーザ結晶化(SELAX)法による高移動度低温ポリSi-TFT(有機ELとTFT(シリコン,化合物,有機)及びディスプレイ技術)
• 5インチLCD駆動用塗布型高移動度TFTアレイの開発
• 擬似2層構造を有する高精度多結晶シリコン抵抗の提案と実験的検討(集積エレクトロニクス)
• 高精度多結晶シリコン抵抗設計式の検討
• 高濃度ボロンドープ・Siエピタキシャル成長技術を用いたソース/ドレイン積み上げ構造MOSFETの試作
• 高精度二層多結晶シリコン抵抗の開発(2)
• 高精度二層多結晶シリコン抵抗の開発(1)
• リンドープポリSiエミッタを用いた超高速Siバイポーラトランジスタ

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