宮内 昭浩 | 日立 日立研

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概要

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関連著者

• 宮内 昭浩

  日立 日立研

• 鈴木 誉也

  日立製作所日立研究所

• 宮内 昭浩

  日立製作所日立研究所

• 井上 洋典

  日立製作所日立研究所

• 宮内 昭浩

  日立製作所 日立研究所 材料研究所 電子材料研究部 ナノプリントストラテジックソリューションユニット

• 宮内 昭浩

  (株)日立製作所中央研究所

• 上田 和浩

  日立・日立研

• 上田 和浩

  日立製作所日立研究所

• 芝 健夫

  (株)日立製作所中央研究所

• 内野 俊

  (株)日立製作所中央研究所

• 宮内 昭浩

  (株)日立製作所日立研究所

• 上田 和浩

  富山大学 理学部

• 宇佐美 勝久

  (株)日立製作所 日立研究所

• 中田 真佐美

  日立製作所日立研究所

• 宇佐美 勝久

  日立製作所日立研究所

• 宇佐美 勝久

  日立製作所中央研究所

• 上田 和浩

  日立製作所

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著作論文

• 高濃度ボロンドープ・Siエピタキシャル成長技術を用いたソース/ドレイン積み上げ構造MOSFETの試作
• シリコン低温エピタキシャル成長における不純物高濃度ドーピング
• シリコン低温エピタキシャル層の評価
• HF処理基板表面への低温シリコンエピタキシャル成長とエピタキシャル層/シリコン基板の界面評価
• 低圧クリ-ンCVDによるシリコン低温エピタキシャル成長 (特集:2000年以降のシリコン結晶)
• CI-2-4 ナノリソグラフィのバイオ応用(CI-2.ナノ加工技術の最新動向と次世代デバイスへの応用,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)

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