鈴木 誉也 | 日立製作所日立研究所

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概要

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関連著者

• 鈴木 誉也

  日立製作所日立研究所

• 宮内 昭浩

  日立 日立研

• 宮内 昭浩

  日立製作所日立研究所

• 井上 洋典

  日立製作所日立研究所

• 宮内 昭浩

  日立製作所 日立研究所 材料研究所 電子材料研究部 ナノプリントストラテジックソリューションユニット

• 青山 隆

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• 上田 和浩

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• 上田 和浩

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• 上田 和浩

  富山大学 理学部

• 宇佐美 勝久

  (株)日立製作所 日立研究所

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• 井上 洋典

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• 宇佐美 勝久

  日立製作所中央研究所

• 上田 和浩

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著作論文

• シリコン低温エピタキシャル成長における不純物高濃度ドーピング
• シリコン低温エピタキシャル層の評価
• HF処理基板表面への低温シリコンエピタキシャル成長とエピタキシャル層/シリコン基板の界面評価
• 赤外分光分析法によるSi気相成長炉内ガス濃度のin-situ計測

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