有本 由弘 | 富士通研
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概要
関連著者
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有本 由弘
富士通研
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有本 由弘
(株)富士通研究所
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有本 由弘
(株)富士通研究所 基盤技術研究所
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堀江 博
(株)富士通研究所
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伊藤 昭男
富士通研究所
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中村 亘
富士通株式会社
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有本 由弘
富士通研究所
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中村 亘
富士通
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今井 雅彦
(株)富士通研究所
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伊藤 昭男
(株)富士通研究所
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KISHII Sadahiro
Fujitsu Laboratories Ltd.
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岸井 貞浩
(株)富士通研究所
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Kishii Sadahiro
Device Integration Technology Laboratories, Fujitsu Laboratories Ltd., Atsugi, Kanagawa 243-0197, Japan
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岸井 貞浩
(株) 富士通研究所
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伊藤 隆司
東北大学大学院工学研究科
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谷内 利明
東京理科大学工学部
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谷内 利明
Ntt入出力システム研究所
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松本 聡
NTT入出力システム研究所
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中村 亘
(株)富士通研究所 基盤技術研究所
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伊藤 隆司
富士通研究所
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杉本 文利
富士通株式会社
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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杉本 文利
富士通研究所ULSIプロセス研究部
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酒井 達郎
Ntt通信エネルギー研究所
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佐々木 伸夫
(株)富士通研究所
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松本 聡
NTT環境エネルギー研究所
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石山 俊彦
Ntt
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加藤 一実
産総研
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會澤 康治
東京工業大学 精密工学研究所
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佐々木 伸夫
(株)富士通研究所シリコンテクノロジ研究所
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石原 宏
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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石山 俊彦
NTT入出力システム研究所
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平岡 靖史
NTT入出力システム研究所
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塚田 峰春
(株)富士通研究所基盤技術研究所
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塚田 峰春
(株)富士通研究所
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朴 炳垠
ソウル市立大学
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高橋 憲弘
東京工業大学 総合理工学研究科
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田渕 良志明
東工大フロンティア研
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朴 炳垠
素子協
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會澤 康治
東工大精研
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川島 良仁
東工大フロンティア研
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高橋 憲弘
東工大フロンティア研
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石原 宏
東工大フロンティア研
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佐々木 伸夫
富士通研究所、ulsiプロセス研究部
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大谷 成元
(株)富士通研究所
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鉾 宏真
富士通研究所ulsiプロセス研究部
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堀江 博
富士通研究所、ULSIプロセス研究部
-
SAKAI T.
NTT Integrated Information & Energy Systems Laboratories
著作論文
- (Bi,Nd)_4Ti_3O_/HfO_2/Si(100)構造の作製と評価(新型不揮発性メモリー)
- デバイス反転型薄層Quasi-SOIパワーMOSFET
- pH制御選択研磨による超薄膜SOI基板の作製
- デバイス反転型シリコンウエハ直接貼り合わせ法により製作したQuasi-SOIパワーMOSFET
- 多結晶シリコンとアルミ置換による高アスペクト比ビアプラグの形成技術
- 多結晶シリコンとアルミ置換による微細配線技術
- フィールド酸化膜ストッパ型貼り合わせSOI基板の作製とMOSFETの評価
- リサイクルが可能な酸化マンガン研磨剤の開発 (特集 第25回環境賞/環境技術をめぐる最近の動向) -- (第25回環境賞 優良賞)
- Mn_2O_3研磨剤をもちいたSiO_2研磨
- 研磨砥粒が研磨速度と洗浄性に与える影響
- 不揮発性強誘電体メモリー(FeRAM)
- 酸化膜CMPにおけるウエハ温度のin situモニタリング