加藤 一実 | 産総研
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概要
関連著者
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加藤 一実
産総研
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鈴木 一行
産業技術総合研究所セラミックス研究部門
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三木 健
産総研
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鈴木 一行
産総研
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西澤 かおり
産総研
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安井 久一
産総研
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安井 久一
早大理工
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符 徳勝
産総研
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安井 久一
名工研
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小塚 晃透
産業技術総合研究所
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砥綿 篤哉
産業技術総合研究所
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辻内 亨
産総研
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砥綿 篤哉
産総研
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會澤 康治
東京工業大学 精密工学研究所
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石原 宏
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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有本 由弘
富士通研
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加藤 一実
(独)産業技術総合研究所先進製造プロセス研究部門テーラードリキッド集積研究グループ
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朴 炳垠
ソウル市立大学
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小塚 晃透
産総研
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安井 久一
(独)産業技術総合研究所
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辻内 亨
(独)産業技術総合研究所
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砥綿 篤哉
(独)産業技術総合研究所
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小塚 晃透
(独)産業技術総合研究所
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高橋 憲弘
東京工業大学 総合理工学研究科
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田渕 良志明
東工大フロンティア研
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朴 炳垠
素子協
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會澤 康治
東工大精研
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川島 良仁
東工大フロンティア研
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高橋 憲弘
東工大フロンティア研
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石原 宏
東工大フロンティア研
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砥錦 篤哉
産総研
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加藤 一実
(独)産業技術総合研究所
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辻内 享
産総研
著作論文
- 3L06 CaBi_4Ti_4O_ 強誘電体薄膜の構造と特性に対する Pt 電極の影響
- 3L01 化学溶液法による (Y, Yb) MnO_3/Insulator/Si の作製
- 3H08 有機物を添加したゾルを用いた酸化チタン多孔質膜の作製
- 3H04 紫外線を照射して作製したジルコニア薄膜の結晶性・表面微構造に対する基板と照射波長の影響
- 2G06 紫外線照射によるケミカルプロセスにより作製した ZrO_2 薄膜の表面微構造制御
- 1G24 ポリエチレングリコールを含有するゾルを用いた酸化チタン多孔質膜の作製
- 1F22 アルコキシド溶液法により作製した (Y, Yb)MnO_3 薄膜における組成の影響
- 1E04 アルコキシド法による Pt 下部電極付 Si 基板上へのCa_2Bi_4Ti_5O_ 強誘電体薄膜の作製
- (Bi,Nd)_4Ti_3O_/HfO_2/Si(100)構造の作製と評価(新型不揮発性メモリー)
- ソノケミカル反応によるナノ粒子生成の数値シミュレーション (特集 超音波応用技術の新展開)
- 2P-32 粘性流体中での音響キャビテーションの物理効果に関する数値シミュレーション(ポスターセッション)
- 超音波照射下の粘性流体中での気泡の物理作用と雰囲気圧
- 2E4-1 超音波照射によるBaTiO_3ナノ粒子生成と凝集の数値シミュレーション(非線形,強力超音波,ソノケミストリー)
- 3Pa4-7 溶存気体飽和度が音響発光強度に与える影響(ポスターセッション)
- A2 水銀中ソノルミネッセンスの数値シミュレーション
- A07 ソノケミカル反応によるナノ粒子生成の数値シミュレーション(口頭発表)