鈴木 一行 | 産総研

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概要

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関連著者

• 鈴木 一行

  産総研

• 鈴木 一行

  産業技術総合研究所セラミックス研究部門

• 三木 健

  産総研

• 加藤 一実

  産総研

• 西澤 かおり

  産総研

• 符 徳勝

  産総研

• 畑中 信一

  電通大量子・物質工

• 小塚 晃透

  産業技術総合研究所

• 砥綿 篤哉

  産業技術総合研究所

• 安井 久一

  名工研

• 安井 久一

  産総研

• 辻内 亨

  産総研

• 小塚 晃透

  産総研

• 砥綿 篤哉

  産総研

• 畑中 信一

  電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻

• 畑中 信一

  中小企業事業団

• 畑中 信一

  電通大情報理工

• 畑中 信一

  電気通信大学

• 畑中 信一

  電通大

• 安井 久一

  早大理工

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著作論文

• 3L06 CaBi_4Ti_4O_ 強誘電体薄膜の構造と特性に対する Pt 電極の影響
• 3L01 化学溶液法による (Y, Yb) MnO_3/Insulator/Si の作製
• 3H08 有機物を添加したゾルを用いた酸化チタン多孔質膜の作製
• 3H04 紫外線を照射して作製したジルコニア薄膜の結晶性・表面微構造に対する基板と照射波長の影響
• 2G06 紫外線照射によるケミカルプロセスにより作製した ZrO_2 薄膜の表面微構造制御
• 1G24 ポリエチレングリコールを含有するゾルを用いた酸化チタン多孔質膜の作製
• 1F22 アルコキシド溶液法により作製した (Y, Yb)MnO_3 薄膜における組成の影響
• 1E04 アルコキシド法による Pt 下部電極付 Si 基板上へのCa_2Bi_4Ti_5O_ 強誘電体薄膜の作製
• 1J-4 超音波を用いた溜まり場を持つマイクロ流路中での微粒子操作(非線形,強力超音波,ソノケミストリー)

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