3L01 化学溶液法による (Y, Yb) MnO_3/Insulator/Si の作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本セラミックス協会の論文
- 2002-09-22
著者
関連論文
- AFMによるBi系強誘電体薄膜における自発分極配向の画像化
- アルミニウムケイ酸塩によるスピネル型マンガン酸化物の表面被覆
- プロセス技術開発 テーラードリキッドソースによる酸化チタン多孔質膜の成膜技術
- 3L06 CaBi_4Ti_4O_ 強誘電体薄膜の構造と特性に対する Pt 電極の影響
- 3L01 化学溶液法による (Y, Yb) MnO_3/Insulator/Si の作製
- 3H08 有機物を添加したゾルを用いた酸化チタン多孔質膜の作製
- 3H04 紫外線を照射して作製したジルコニア薄膜の結晶性・表面微構造に対する基板と照射波長の影響
- シリコン半導体上におけるビスマス系層状構造強誘導体のリキッドソースを用いたケミカルアプローチ(セラミックスインテグレーション)
- 2G06 紫外線照射によるケミカルプロセスにより作製した ZrO_2 薄膜の表面微構造制御
- 1G24 ポリエチレングリコールを含有するゾルを用いた酸化チタン多孔質膜の作製