804 Single-MASK傾斜UVリソグラフィを用いたエレクトロポレーションチップの開発(2)(OS8-1 医療援用工学における流動ダイナミクス,OS8 医療援用工学における流動ダイナミクス,オーガナイズドセッション)
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概要
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A novel single-mask fabrication method for high-density arrayed micro-orifices and embedded microchannels is proposed for single cell analysis. The process is based on inclined UV lithography to expose a single layered photoresist (SU-8) coated on a patterned mask. Long embedded microchannels with a length/width ratio as high as 1000 can be fabricated by the proposed process. We prepared SU-8 structure with arrayed micro-orifices and embedded microchannels, and carried out an electroporation test with mouse erythroleukemia (MEL) cells to confirm the validity of the proposed system. Nuclear transport factor importinss was fed to the cellular interior by applying the low pulsed voltage.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2006-10-28
著者
-
鈴木 孝明
京大
-
神野 伊策
京大
-
小寺 秀俊
京大
-
鈴木 孝明
香川大学
-
鷲津 正夫
東大
-
大岡 正孝
Astem
-
山本 英郎
京大
-
鷲津 正夫
東京大学 工学系研究科 機械工学専攻
-
鷲津 正夫
東大院・工・バイオエンジニアリング
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