ホットプレス法によるAgInSe2バルク結晶の結晶成長
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Undoped polycrystalline AgInSe2 bulk crystals were successfully grown at low temperature (700℃) using Hot-Press Method. The starting materials were stoichiometrically mixed Ag2Se and In2Se3 powders. The size of all samples was 2 cm in diameter. The samples were evaluated X-ray diffraction, SEM, EPMA, Density measurement, Hall measurement and optical transmittance measurement. We obtained AgInSe2 single phase at 700℃. The grain size was approximately 80 nm and the presence of lattice defects such as Se atom in the Ag site and/or Se atom in the In site might lead to an enhancement in n-type electrical conductivity at 700℃. The crystal at 700℃ had a resistivity of 0.16 Ωcm, a carrier concentration of (7.6×10)16 cm-3 and a mobility of 73 cm2V-1s-1 obtained by Hall measurement at RT. From optical transmittance measurement, the bandgap was estimated to be 1.204 eV at RT.
- 宮崎大学の論文
- 2008-08-30
著者
-
吉野 賢二
宮崎大学工学部
-
碇 哲雄
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
木下 綾
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
-
白幡 泰浩
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
吉野 賢二
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
碇 哲雄
宮崎大学工学部
関連論文
- 太陽電池用透明導電膜の作製(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- 太陽電池用透明導電膜の作製(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- 太陽電池用透明導電膜の作製(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
- スプレー熱分解法によるFTO系透明導電膜の作成
- FTO透明電極を使用した色素増感太陽電池の作成
- ITO透明導電膜のスプレー法による作成と評価
- ホットプレス法によるAgInSe2バルク結晶の結晶成長
- スプレー熱分解法 ZnO系透明導電膜の作成とアニール効果
- AgGaSe2バルク結晶のフォトルミネッセンス特性
- スプレー熱分解法で作成したIn-doped ZnO薄膜の熱処理による光学的、電気的性質
- ホットプレス法によるAgGaSe2バルク結晶の成長
- A-008 電子デバイスのものつくり課題探求実験(ポスター発表論文,(A)創造性を育む様々な取り組み)
- 真空蒸着法を用いたAgInS_2薄膜の作製と評価
- カルコパイライト型半導体AgGaSe2の組成依存性
- 陽子線を照射したカルコパイライト型化合物半導体CuInSe_2薄膜の圧電素子光熱分光スペクトル(研究論文編)
- 無添加およびSb添加カルコパイライト型化合物半導体CuInS_2薄膜の作製および評価(研究論文編)
- 真空蒸着法によるAgGaSe2薄膜作成と評価
- スパッタリング法によるZnO系薄膜の作成および酸素分圧依存性
- V族元素添加CuInS_2結晶のホットプレス成長
- Ge-Se系ガラスの結晶化過程の組成依存性
- 圧電素子光熱分光法によるチタニア薄膜の光学的特性の研究
- AlGaN/GaNヘテロ界面に形成される2次元電子ガスの光学的特性
- 圧電素子光熱分光法による半導体薄膜の評価
- フォトルミネッセンス分光法によるIII-V族化合物半導体InGaAlPの評価
- 製膜速度による微結晶シリコン薄膜の圧電素子光熱分光スペクトル変化
- 6a-A-3 熱電半導体Bi_2Te_Se_ へのSbI_3添加効果
- カルコパイライト型半導体AgGaSe_2の異方性熱物性値(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- カルコパイライト型半導体AgGaSe_2の異方性熱物性値(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- カルコパイライト型半導体AgGaSe_2の異方性熱物性値(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- カルコパイライト型半導体AgGaSe_2結晶の光学評価による物性解析(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- カルコパイライト型半導体AgGaSe_2結晶の光学評価による物性解析(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- カルコパイライト型半導体AgGaSe_2結晶の光学評価による物性解析(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告))
- カルコパイライト型半導体CuGaSe_2薄膜の圧電素子 : 光音響分光法による評価
- 30a-S-8 CuInSe_2、CuIn_3Se_5、Cu_2In_4Se_7結晶の光学的評価
- サーマルドナーによるCZ成長p型Siの電気的特性の変化
- p型シリコン中に存在する不純物準位の室温における光音響スペクトル
- ホットプレス法で作製した熱電半導体CoSb_3の作製条件の相違によるキャリア輸送特性への影響
- 熱処理によるGeSe_2ガラスの結晶核生成過程の研究
- C-6-3 ホットプレス法によるカルコパイライト型半導体V族添加CuInS_2結晶の結晶成長と評価
- ホットプレス法によるカルコパイライト型半導体CuInS_2結晶の結晶成長と評価
- GeSe_2蒸着薄膜の熱アニールによる構造変化の研究
- カルコパイライト型半導体CuGaSe_2薄膜のGaAs基盤の影響
- GeSe_2ガラスの熱結晶化過程のアニール条件依存性
- カルコパイライト型半導体AgIn(S_xSe_)_2結晶の結晶成長と評価
- カルコパイライト型半導体CuInS_2単結晶の光学特性
- 見かけの活性化エネルギーの組成依存性によるカルコゲナイドガラスのガラス転移の研究
- カルコパイライト型半導体CuInSe_x(1.5
- 圧電素子 : 光音響スペクトルにおけるGaAs禁制帯近くの信号変化の解析
- アルカリハロゲン化物を添加したTmドープカルコゲナイドガラスの発光特性
- ラマン分光法によるSiCセラミックス焼結体におけるポリタイプの研究
- Bi-Te系熱電半導体のSbI_3によるキャリア制御
- フォトルミネッセンス法による高濃度SiドープGaAsのバンドギャップとフェルミエネルギーの決定
- Er添加カルコゲナイドガラスのフォトルミネッセンス法による評価
- C-6-5 Ge-Se系における新しい結晶相のラマンスペクトルによる確認
- スプレー熱分解法による低抵抗FTO系透明導電膜の作製
- スプレー熱分解法によるFTO系透明導電膜の膜厚依存性
- I-III-VI2族化合物半導体CuInS2の異方性を持つ物性値の解析
- I-III-VI2族化合物半導体のAgInS2の電気的、光学的特性
- ホットプレス法で作成した AgInS2 結晶の Ag/In 比の依存性
- Gaを添加した酸化亜鉛膜の熱処理効果
- スパッタ法によるIrSnO2の作製とエレクトロクロミック特性
- イオンプレーティング法により作成した Ga-doped ZnO 薄膜の熱処理効果
- ホットプレス法により作製したCuInTe2の成長温度依存性
- カルコパイライト型半導体AgGaSe2結晶の禁制帯幅の温度依存性
- RFスパッタ法により作成したIrSnO2薄膜の基板温度依存性
- ポーラスシリコンの可視発光メカニズム
- 8a-S-12 圧電素子-光音響分光法(P-PAS)を用いた, シリコンの熱処理に伴うサーマルドナー形成の評価
- 26p-YE-8 カルコゲナイド系アモルフォス半導体GeSe_2の降温過程における構造変化過程
- 5a-A-8 アモルファス半導体GeSe_2の昇温および降温過程における構造変化
- ホットプレス法により作製したCuInTe2のCu/In比依存性
- ホットプレス法によるCu2ZnSnS4のバルク結晶成長
- スピンコート法による酸化亜鉛薄膜作製
- 第一原理計算による酸化金属系透明導電膜の解析
- 透明導電膜 (特集 太陽電池部材)
- スプレー熱分解法による酸化亜鉛薄膜の低温大気作製
- スプレー熱分解法によるSnO2系透明導電膜の成長メカニズムの解明
- 原子層エピタキシー法を用いた超高効率多接合型太陽電池用材料(In)GaAsNの開発