9-8 ICPプラズマ支援マグネトロンスパッタ法で作成したCo-Cr薄膜の磁気特性
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概要
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Co-Cr films were deposited by inductive-coupled-plasma assisted magnetron sputtering. Co-Cr films with high coercivity and large perpendicular magnetic anisotropy were obtained when the ion bonbardment to a substrate is small.
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1997-07-29
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