酸素イオン照射によるCo含有酸化鉄薄膜メディアの作製
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概要
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A new plasma oxidization method was introduced into the fabrication process of Co-γFe_2O_3/NiO thin-film magnetic recording media in order to transform CoOFe_3O_4/NiO films into Co-γFe_2O_3/NiO films. It was found that remarkably effective oxidization was achieved by utilizing oxygen ions generated in an electron-cyclotron-resonance (ECR) microwave plasma, promoting oxygen generation though the Penning ionization effect using metastable He atoms, and neutralizing samples. In the coventional oxidization method, CoOFe_3O_4/NiO films were heated up to over 300℃, and kept for 1 to 2 hours in air. The new plasma oxidization method shortened the processing time to 10 seconds and lowered the process temperature to 150℃.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1999-04-15
著者
-
中田 健一
Toda Citron Technologies
-
柿原 康男
戸田工業
-
山本 節夫
山口大学工学部
-
山時 照章
山口大学工学部
-
栗巣 普揮
山口大学工学部
-
松浦 満
山口大学工学部
-
中田 健一
戸田工業(株)創造本部
-
柿原 康男
戸田工業(株)創造本部
-
土井 孝紀
戸田工業(株)創造本部
-
田万里 耕作
戸田工業(株)創造本部
-
田万里 耕作
戸田工業株式会社
-
土井 孝紀
戸田工業
-
柿原 康男
戸田工業(株)
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