酸素イオン照射によるCo含有酸化物薄膜メディアの作成
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概要
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- 1998-09-01
著者
-
中田 健一
Toda Citron Technologies
-
土井 孝紀
戸田工業株式会社創造本部
-
栗巣 普揮
山口大工
-
山本 節夫
山口大工
-
松浦 満
山口大工
-
中田 健一
戸田工業
-
柿原 康男
戸田工業
-
田万里 耕作
戸田工業
-
山時 照章
山口大学工学部
-
田万里 耕作
戸田工業株式会社
-
松浦 満
山口大学 工学部
-
山本 節夫
山口大学 工学部
-
土井 孝紀
戸田工業
-
山本 節夫
山口大学大学院理工学研究科
-
松浦 満
山口大学大学院理工学研究科
-
山時 照章
山口大工
-
栗巣 普揮
山口大・工
-
松浦 満
山口大(工)
-
山本 節夫
山口大(工)
-
松浦 満
山口大 工
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