松浦 満 | 山口大学大学院理工学研究科
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概要
関連著者
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松浦 満
山口大学大学院理工学研究科
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松浦 満
山口大学 工学部
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山本 節夫
山口大学大学院理工学研究科
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山本 節夫
山口大学 工学部
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栗巣 普揮
山口大工
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松浦 満
山口大 工
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山本 節夫
山口大(工)
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栗巣 普揮
山口大・工
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山本 節夫
山口大工
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栗巣 普揮
山口大学工学部
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栗巣 普揮
山口大学 工学部
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松浦 満
山口大(工)
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松浦 満
山口大工
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大城 和宣
山口大工
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田万里 耕作
戸田工業株式会社
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大城 和宣
山口大学 工学部
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大城 和宣
山口大学大学院応用医工学系専攻
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大城 和宣
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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平田 京
山口大学工学部
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田万里 耕作
戸田工業
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藤森 宏高
山口大学工学部
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土井 孝紀
戸田工業
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藤森 宏高
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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藤森 宏高
山口大学大学院医学研究科
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藤森 宏高
東京工業大学工業材料研究所
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藤森 宏高
東工大 応用セラミックス研
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山本 節夫
山口大学工学部
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松浦 満
山口大学工学部
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田中 輝光
山口大学大学院理工学研究科
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下里 義博
株式会社島津製作所
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栗巣 普揮
山口大学・工
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林 利彦
山口大
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中田 健一
Toda Citron Technologies
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土井 孝紀
戸田工業株式会社創造本部
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中田 健一
戸田工業
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柿原 康男
戸田工業
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山時 照章
山口大学工学部
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土井 孝紀
戸田工業(株)創造本部
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田万里 耕作
戸田工業(株)創造本部
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栗原 普揮
山口大
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和田 宏文
山口大学工学部
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下里 義博
(株)島津製作所
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岡田 繁信
株式会社島津製作所
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山時 照章
山口大工
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西村 和則
山口大学工学部機能材料工学科
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西村 和則
山口大学 工学部
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荻田 知治
山口大学
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小嶋 勇介
山口大学工学部
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荻田 知治
山口大学工学部
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寒川 賢義
山口大
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小嶋 勇介
山口大学工学部機能材料工学科
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三上 秀人
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
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藤井 重男
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
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登尾 尚史
山口大学工学部
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三上 秀人
日立金属(株)
-
藤井 重男
日立金属(株)
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栗巣 普輝
山口大学工学部
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赤井 光治
山口大メディア
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栗巣 普輝
山口大学大学院理工学研究科
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赤井 光治
山口大MITC
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岡田 繁信
(株)島津製作所
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古賀 健治
山口大VBL
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石田 元
山口大学工学部
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牛尾 雄史
山口大学
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国木 弘文
山口大学工学部
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張 平宇
清州大学工学部
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山本 節夫
山口大学大学院医学系研究科 応用医工学専攻
著作論文
- 2) ペニング電離を利用したCo含有酸化鉄薄膜メディアの低温・高速作製法(画像情報記録研究会)
- 酸素イオン照射によるCo含有酸化物薄膜メディアの作成
- 低背型アイソレータの開発
- 酸化鉄保護層を有するCo-Cr垂直磁気記録媒体
- 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜のポスト酸化処理効果
- C-7-2 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜の磁場中アニール効果
- 量産対応型ECRスパッタ装置によるフェライト薄膜の低温高速製造技術の開発
- YIGフェライト単結晶の利用によるマイクロストリップYアイソレータの小型化
- 3)誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr薄膜の作製(画像情報記録研究会)
- 7)誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成(画像情報記録研究会)
- 28pWN-13 貴金属元素ドープされたクラスレート化合物の電子構造と輸送特性(グラファイト・クラスター・クラスレート)(領域7)
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
- 低電圧でのECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
- サーキュレータ用YIGフェライト薄膜のフラッシュアニール効果
- YIGフェライト薄膜を使用したサーキュレータ
- DC-DCコンバーター用薄型インダクタ
- 平坦化したフェライト基板上に作製したインダクタ
- マイクロ波磁気デバイス用YIGフェライト薄膜の作製
- コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製
- Co含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
- 3-8 Co含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性