下里 義博 | 株式会社島津製作所
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概要
関連著者
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下里 義博
株式会社島津製作所
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岡田 繁信
株式会社島津製作所
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栗巣 普揮
山口大工
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松浦 満
山口大学工学部
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山本 節夫
山口大学工学部
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栗巣 普揮
山口大学工学部
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和田 宏文
山口大学工学部
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山本 節夫
山口大学大学院理工学研究科
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藤森 宏高
山口大学工学部
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松浦 満
山口大学大学院理工学研究科
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田中 輝光
山口大学工学部
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藤森 宏高
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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山本 節夫
山口大工
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松浦 満
山口大学 工学部
-
山本 節夫
山口大学 工学部
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下里 義博
(株)島津製作所
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石田 元
山口大学工学部
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藤森 宏高
山口大学大学院医学研究科
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荻田 知治
山口大学工学部
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山本 節夫
山口大学大学院医学系研究科 応用医工学専攻
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藤森 宏高
東工大 応用セラミックス研
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大城 和宣
山口大工
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岡田 繁信
(株)島津製作所
-
大城 和宣
山口大学大学院応用医工学系専攻
-
藤森 宏高
山口大学大学院応用医工学系専攻
-
栗巣 普揮
山口大・工
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栗巣 普揮
山口大学大学院理工学研究科
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荻田 知治
山口大学
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大城 和宣
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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藤森 宏高
東京工業大学工業材料研究所
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栗巣 普揮
山口大学 工学部
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山本 節夫
山口大(工)
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松浦 満
山口大 工
著作論文
- 量産対応型ECRスパッタ装置によるフェライト薄膜の低温高速製造技術の開発
- 反応性電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速作製
- 低電圧ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製(ソフト磁性材料)
- 低電圧ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製(ソフト磁性材料)
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製 : スピネル酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア用軟磁性裏打ち層(第7回アジア情報記録技術シンポジウム)
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製 : スピネル酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア用軟磁性裏打ち層
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
- コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製(ソフト磁性材料)
- コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製
- フェライト薄膜用ECRスパッタ装置 (特集 半導体・FPD・新素材の検査/製造装置)
- イオンビーム成膜装置の開発 (特集 半導体・フラットパネルディスプレイの検査・製造装置)