反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製 : スピネル酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア用軟磁性裏打ち層(第7回アジア情報記録技術シンポジウム)
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概要
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電子サイクロトロン共鳴(ECR)マイクロ波を用いた反応性スパッタ法によって、Co含有スピネルフェライト薄膜垂直記録メディア用のNi-Znフェライト薄膜軟磁性裏打ち層を作製した。高成膜速度を実現するため,ECRスパッタ・ターゲットの構造、酸素ガスの導入位置、マイクロ波電力、ターえっと電圧、酸素ガス分圧などのプロセスパラメータが注意深く最適化された。坑磁力が15 Oeと低く、(400)が優先配向したNi-Znスピネルフェライト薄膜が,200℃以下の温度で、14 nm/min.の成膜速度で作製できた。反応性ECRスパッタ法は、垂直磁気記録メディアの作製に適した方法である。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 2002-11-07
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