フェライト薄膜を使用したサーキュレータの設計
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2005-04-01
著者
-
山本 節夫
山口大学工学部
-
松浦 満
山口大学工学部
-
三上 秀人
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
-
藤井 重男
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
-
大城 和宣
山口大学工学部
-
登尾 尚史
山口大学工学部
-
藤森 宏高
山口大学工学部
-
三上 秀人
日立金属先端エレクトロニクス研究所
-
藤井 重男
日立金属先端エレクトロニクス研究所
-
藤森 宏高
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
関連論文
- 酸素イオン照射によるCo含有酸化鉄薄膜メディアの作製
- Co-γFe_2O_3/NiO垂直薄膜磁気ディスクのオフトラック特性
- ペニング電離を利用したCo含有酸化鉄薄膜メディアの低温・高速作製法
- Co-γFe_2O_3/NiO薄膜磁気メディア作製法の検討 : ECR酸素プラズマを用いた低温酸化処理の試み
- コプレーナ導波路構造を用いたサーキュレータ
- フェライト薄膜を使用したサーキュレータの設計(計測・高周波デバイス)
- フェライト薄膜を使用したサーキュレータの設計
- 低背型アイソレータの開発
- 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアのプラズマ酸化処理効果 : 磁気記録媒体
- ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアの磁気特性および記録特性
- 3-7 Co含有酸化鉄薄膜メディアの酸化処理効果
- 有機可塑基板上に堆積させたCo含有酸化鉄薄膜
- 反応性スパッタリング法で作製したCo含有酸化鉄薄膜ディスク
- C-7-2 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜の磁場中アニール効果
- フェライト薄膜記録メディアの作製と磁気特性
- プラズマ酸化法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
- 垂直および長手両記録方式に対応可能なCo含有酸化鉄薄膜メディア
- 放電プラズマ焼結技術を用いた熱電変換材料開発
- チタン系真空材料の表面キャラクタリゼーション
- チタン材料の真空特性と応用展開
- 反応性電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速作製
- 2 GHz帯で動作する3.5mm角のマイクロストリップアイソレータ
- 化学研磨処理した純チヌンのガス放出特性
- YIGフェライト単結晶の利用によるマイクロストリップYアイソレータの小型化
- 低電圧ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製(ソフト磁性材料)
- 低電圧ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
- 誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr薄膜の作製 : 基板バイアスによって制御したイオン照射の効果
- 9-8 ICPプラズマ支援マグネトロンスパッタ法で作成したCo-Cr薄膜の磁気特性
- 誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成
- 誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成
- ECRスパッタ法を用いたCo-Cr垂直磁気異方性膜の作製 : 磁界によるプラズマ制御の効果
- ECRスパッタ法で作成したCo-Cr膜の微細構造
- 9-7 ECRスパッタ法で作成したCo-Cr垂直磁気ディスクの記録特性
- 9-6 ECRスパッタ法で作成したCo-Cr薄膜の磁化の安定性
- ECRスパッタ法を用いたCo-Cr垂直磁気異方性膜の作成 -磁界分布による物性制御-
- ECRスパッタ法によるCo-Cr垂直磁気異方性膜作成におけるイオン照射効果の検討
- ECRスパッタ法により作製したCo-Cr垂直磁気異方性膜の磁気特性
- ECRスパッタ法により作製したCo-Cr垂直磁気異方性膜の磁気特性
- 誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr薄膜の作製 : 基板バイアスによって制御したイオン照射の効果
- 誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成
- ナノ結晶FeCoCuNbSiB合金の磁気特性
- ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアの磁気特性および記録特性
- 磁気抵抗素子用合金多層膜の水溶液環境腐食
- ペニング電離を利用したCo含有酸化鉄薄膜メディアの低温・高速作製法
- BaTa_2O_6の紫外レーザーラマン分光法による1573Kまでのその場観察
- SrZrO_3の700から850℃における構造相転移のラマン分光による研究
- 顕微ラマン散乱による窒化アルミニウム半導体製造装置用部品の耐食性に関する研究
- B109 細胞活動観察を目的としたリン酸カルシウムセラミックス透明体の作製(B1-2 生体材料2)
- Ni-Znフェライト薄膜を使用したインダクタ
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製(ソフト磁性材料)
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製 : スピネル酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア用軟磁性裏打ち層(第7回アジア情報記録技術シンポジウム)
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製 : スピネル酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア用軟磁性裏打ち層
- 放電プラズマ焼結法を用いて作製した高B_sコア材
- 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアの熱安定性
- フェライト薄膜記録メディアの作製と磁気特性
- プラズマ酸化法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
- YIGフェライト薄膜を使用したサーキュレータ
- 27pYG-11 量子ドット中の格子欠陥に束縛された励起子に対するLOフォノン効果
- 25aXC-5 極性媒質に囲まれた超微粒子中の励起子に対するLOフォノン効果
- 25aN-3 量子ドット系における電子-LOフォノン相互作用 : 形状の効果
- 放電プラズマ焼結法による軟磁性コア材の作製
- DC-DCコンバーター用薄膜インダクタ
- B-9-3 フォトリソグラフィーを用いた薄膜インダクタの試作
- 平坦化したフェライト基板に作製した薄膜インダクタ
- 固相還元反応を利用したBN/Cナノ物質の合成
- SPS法による厚膜フェライトの作製(画像記録装置および一般)
- SPS法による厚膜フェライトの作製
- チタン製真空容器の真空特性
- 軟磁性ナノピラー媒体への垂直記録シミュレーション(垂直磁気記録及び一般)
- コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製(ソフト磁性材料)
- 高強度低合金チタンにおけるガス放出速度のベーキング温度・ベーキング時間依存性
- 高強度低合金チタンの昇温脱離特性
- 反応性スパッタ法による作製においてエピタキシャル成長したYIGフェライト薄膜
- Co-γ-Fe_2O_3垂直磁気記録媒体のノイズ特性 (垂直磁気記録)
- Co-γFe_2O_3高密度磁気記録媒体の作製と記録特性 (磁気記録媒体)
- Co-γFe_2O_3垂直磁気記録媒体のノイズ特性
- Co-γFe_2O_3高密度記録媒体の作製と記録特性
- Co-γFe_2O_3垂直磁気記録媒体の記録特性
- Co-yFe_2O_3垂直磁気記録媒体の記録特性
- 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアの熱安定性
- サマリー・アブストラクト
- チタン材料のガス放出特性
- [招待論文]撮像における動画の高画質化技術について(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- 放電プラズマ焼結法による軟磁性フェライトの製造
- 超格子系の励起子 : 個別閉じ込めと重心閉じ込め
- Co-γFe_2O_3/NiO長手磁気記録媒体の作製と記録再生特性
- SC-6-3 Mn-Znフェライト軟磁性裏打ち層の作製
- マイクロ波電力制御ECRスパッタ法で作製したCo-Cr-Ta垂直磁気ディスク
- ECRスパッタ法によるCo-Cr-Ta/Ti垂直磁気ディスクの作製 : マイクロ波電力による物性制御
- 3-6 極薄フェライト絶縁層を用いた高Bs磁気ヘッドコアの作製
- 誘導結合型プラズマを用いたスパッタ法で作成したCo-Cr垂直磁気ディスク
- 励起子の量子サイズ効果と光学的性質(固体の表面・界面における電子励起状態と緩和過程の研究,科研費研究会報告)
- SC-6-4 ECRイオンビームスパッタ法によるMn-Znフェライト層の作製
- 27aYC-11 スパッタリング法で作製したCuCl超微粒子の光学特性
- ECRスパッタ法によるCo-Cr-Ta/Ti垂直磁気ディスクの作製 : マイクロ波電力による物性制御
- Mn-Znフェライト薄膜を裏打ち層として用いたCo含有酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア(第7回アジア情報記録技術シンポジウム)
- Mn-Znフェライト薄膜を裏打ち層として用いたCo含有酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア
- 圧力印加下でのPbI_2/CdI_2超格子の励起子状態 : 井戸幅減少効果の見積り
- 30p-ZE-1 混晶量子井戸中での励起子と光学フォノンの相互作用
- 28a-YK-6 混晶中での電子とフォノンの結合定数