大城 和宣 | 山口大学工学部
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概要
関連著者
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松浦 満
山口大学工学部
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大城 和宣
山口大学工学部
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山本 節夫
山口大学工学部
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藤森 宏高
山口大学工学部
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赤井 光治
山口大メディア
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藤森 宏高
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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大城 和宣
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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赤井 光治
山口大学工学部
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大城 和宣
山口大工
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三上 秀人
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
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藤井 重男
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
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登尾 尚史
山口大学工学部
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三上 秀人
日立金属先端エレクトロニクス研究所
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藤井 重男
日立金属先端エレクトロニクス研究所
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藤森 宏高
山口大学大学院医学研究科
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藤森 宏高
東工大 応用セラミックス研
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栗巣 普揮
山口大工
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山本 節夫
山口大工
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栗巣 普揮
山口大学工学部
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山本 節夫
山口大学大学院理工学研究科
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田中 輝光
山口大学工学部
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駒田 州輝
山口大学工学部
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栗巣 普揮
山口大学大学院理工学研究科
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藤森 宏高
東京工業大学工業材料研究所
著作論文
- フェライト薄膜を使用したサーキュレータの設計(計測・高周波デバイス)
- フェライト薄膜を使用したサーキュレータの設計
- 2 GHz帯で動作する3.5mm角のマイクロストリップアイソレータ
- 27pYG-11 量子ドット中の格子欠陥に束縛された励起子に対するLOフォノン効果
- 25aXC-5 極性媒質に囲まれた超微粒子中の励起子に対するLOフォノン効果
- 25aN-3 量子ドット系における電子-LOフォノン相互作用 : 形状の効果