山本 節夫 | 山口大学大学院理工学研究科
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概要
関連著者
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山本 節夫
山口大学大学院理工学研究科
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栗巣 普揮
山口大工
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山本 節夫
山口大工
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松浦 満
山口大学 工学部
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山本 節夫
山口大学 工学部
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松浦 満
山口大学大学院理工学研究科
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栗巣 普揮
山口大学大学院理工学研究科
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栗巣 普揮
山口大学工学部
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山本 節夫
山口大(工)
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松浦 満
山口大 工
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大城 和宣
山口大工
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栗巣 普揮
山口大・工
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大城 和宣
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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山本 節夫
山口大学大学院医学系研究科 応用医工学専攻
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松浦 満
山口大学工学部
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藤森 宏高
山口大学工学部
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大城 和宣
山口大学大学院応用医工学系専攻
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藤森 宏高
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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藤森 宏高
山口大学大学院医学研究科
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藤森 宏高
東工大 応用セラミックス研
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山本 節夫
山口大学工学部
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栗巣 普揮
山口大学 工学部
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松浦 満
山口大工
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田万里 耕作
戸田工業株式会社
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大城 和宣
山口大学 工学部
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松浦 満
山口大(工)
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近藤 久雄
愛媛大理
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平田 京
山口大学工学部
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藤森 宏高
東京工業大学工業材料研究所
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田万里 耕作
戸田工業
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土井 孝紀
戸田工業
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田中 輝光
山口大学大学院理工学研究科
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下里 義博
株式会社島津製作所
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田中 輝光
山口大学工学部
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岡田 繁信
株式会社島津製作所
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山本 幸広
愛媛大理
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栗巣 普揮
山口大学・工
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林 利彦
山口大
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田中 修平
神戸大院理
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中田 健一
Toda Citron Technologies
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土井 孝紀
戸田工業株式会社創造本部
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田中 修平
愛媛大理
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釜 保志
愛媛大理
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中田 健一
戸田工業
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柿原 康男
戸田工業
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山時 照章
山口大学工学部
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土井 孝紀
戸田工業(株)創造本部
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田万里 耕作
戸田工業(株)創造本部
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栗原 普揮
山口大
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三上 秀人
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
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藤井 重男
日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所
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和田 宏文
山口大学工学部
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栗巣 普輝
山口大学大学院理工学研究科
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下里 義博
(株)島津製作所
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藤森 宏高
山口大学大学院応用医工学系専攻
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山時 照章
山口大工
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頓宮 敬介
愛媛大理
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西村 和則
山口大学工学部機能材料工学科
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西村 和則
山口大学 工学部
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竹田 将利
山口大学大学院理工学研究科
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荻田 知治
山口大学
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小嶋 勇介
山口大学工学部
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清木 純
山口大院理工
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荻田 知治
山口大学工学部
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寒川 賢義
山口大
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小嶋 勇介
山口大学工学部機能材料工学科
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吉村 昌弘
東京工業大学工業材料研究所
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竹田 敦
東大宇宙線研
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Yoshimura Masashi
Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Osaka University
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大城 和宣
山口大学工学部
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登尾 尚史
山口大学工学部
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三上 秀人
日立金属(株)
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藤井 重男
日立金属(株)
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野村 健
三愛プラント工業株式会社 クリーンテック事業本部
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栗巣 普輝
山口大学工学部
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赤井 光治
山口大メディア
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赤井 光治
山口大学メディア基盤センター
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久見瀬 達郎
山口大学大学院理工学研究科
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宗山 悦博
(株)UBE科学分析センター
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竹田 将利
(株)UBE科学分析センター
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國重 敦弘
(株)UBE科学分析センター
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中川 浜三
(株)UBE科学分析センター
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白水 啓太
(株)UBE科学分析センター
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二井 裕之
(株)UBE科学分析センター
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森本 高志
新光産業株式会社
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部坂 正樹
新光産業株式会社
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岡田 繁信
(株)島津製作所
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駒田 州輝
山口大学工学部
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石澤 克修
三愛プラント工業株式会社 CT 事業本部
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村重 信之
三愛プラント工業株式会社 CT 事業本部
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池田 真一
山口大工
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竹田 敦
愛媛大理
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石田 元
山口大学工学部
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上西 研
山口大学大学院技術経営研究科
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Yoshimura Masashi
Division Of Electric Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka Uni
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山本 節夫
山口大院理工
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吉村 昌弘
東京工業大学
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吉村 昌弘
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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吉村 昌弘
東工大・工材研
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吉村 昌弘
東京工業大学応用セラミックス研究所
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藤井 重男
日立金属株式会社磁性材料研究所
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金 畿永
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
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吉村 昌弘
東京工大
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内田 貴志
山口大学大学院理工学研究科
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江田 庸宏
三愛プラント工業株式会社 クリーンテック事業本部
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村重 信之
三愛プラント工業株式会社 クリーンテック事業本部
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石澤 克修
三愛プラント工業株式会社 クリーンテック事業本部
-
石澤 克修
三愛プラント工業(株)クリーンテック事業本部技術開発センター
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戸田 麻奈美
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系
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牛尾 雄史
山口大学
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Yoshimura Misao
Research And Development Center Toshiba Corp.
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浅田 裕法
山口大学大学院 理工学研究科
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清木 純
山口大工
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吉村 昌弘
Division Of Electric Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka Uni
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宮本 晋太郎
山口大院理工
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栗巣 普揮
山口大院理工
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国木 弘文
山口大学工学部
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張 平宇
清州大学工学部
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Yashima Masatomo
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology:(present Address) Department Of Ma
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Yoshimura M
Toyota Technological Institute
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浅田 裕法
山口大学大学院理工学研究科
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淺田 宏之
山口大学大学院技術経営研究科
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林 義孝
山口大学大学院理工学研究科
著作論文
- 22pPSB-37 アントラセン単結晶微小共振器における異方性キャビティポラリトン分散(22pPSB 領域5ポスターセッション(微粒子・ナノ結晶等),領域5(光物性))
- 2) ペニング電離を利用したCo含有酸化鉄薄膜メディアの低温・高速作製法(画像情報記録研究会)
- 酸素イオン照射によるCo含有酸化物薄膜メディアの作成
- コプレーナ導波路構造を用いたサーキュレータ
- 低背型アイソレータの開発
- 酸化鉄保護層を有するCo-Cr垂直磁気記録媒体
- 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜のポスト酸化処理効果
- C-7-2 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜の磁場中アニール効果
- 超高/極高真空装置のための真空材料の新展開--超低ガス放出チタン材料製真空装置の開発
- 放電プラズマ焼結技術を用いた熱電変換材料開発
- チタン系真空材料の表面キャラクタリゼーション
- チタン材料の真空特性と応用展開
- 量産対応型ECRスパッタ装置によるフェライト薄膜の低温高速製造技術の開発
- 反応性電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法によるフェライト薄膜の低温高速作製
- 2 GHz帯で動作する3.5mm角のマイクロストリップアイソレータ
- YIGフェライト単結晶の利用によるマイクロストリップYアイソレータの小型化
- 3)誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr薄膜の作製(画像情報記録研究会)
- 7)誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成(画像情報記録研究会)
- 27aPS-25 有機単結晶を用いた微小共振器におけるキャビティポラリトンモードの入射角依存性(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- 22aPS-29 有機微小共振器におけるキャビティポラリトン分散II(22aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 25aPS-29 有機微小共振器の光学応答II(25aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- BaTa_2O_6の紫外レーザーラマン分光法による1573Kまでのその場観察
- チタン材料における水のガス放出低減に関する研究
- 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
- 23pPSA-81 有機微小共振器におけるキャビティポラリトン分散(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- 骨再生誘導を目指した新規生体セラミック膜の作製
- 低電圧でのECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
- サーキュレータ用YIGフェライト薄膜のフラッシュアニール効果
- YIGフェライト薄膜を使用したサーキュレータ
- アイソレータの小型化
- 山口大学公開講座「実用講座 真空技術の基礎と応用」の紹介
- 28pPSA-15 CuCl薄膜微小光共振器における共振器ポラリトンの光学特性(28pPSA 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 23pPSA-82 CuCl量子ドット微小光共振器におけるレーザー発振(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- DC-DCコンバーター用薄型インダクタ
- 平坦化したフェライト基板上に作製したインダクタ
- 軟磁性ナノピラー媒体への垂直記録シミュレーション(垂直磁気記録及び一般)
- 軟磁性ナノピラー媒体への垂直記録シミュレーション (マルチメディアストレージ)
- マイクロ波磁気デバイス用YIGフェライト薄膜の作製
- コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製
- Co含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
- 3-8 Co含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
- 1-339 高度ものづくり教育における新しい試み : ベンチャービジネス起業プランとそのフォローアップ作成演習((18)MOT教育,口頭発表)