吉村 昌弘 | Division Of Electric Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka Uni

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概要

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• 同名の論文著者
• Division Of Electric Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka Uniの論文著者

関連著者

• 吉村 昌弘

  東工大・工材研

• Yoshimura Masashi

  Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Osaka University

• 吉村 昌弘

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• Sasaki T

  Division Of Electric Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka Uni

• Mori Y

  Division Of Electric Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka Uni

• 吉村 昌弘

  東京工業大学

• Mori Yusuke

  Department Of Electrical Engineering Osaka University

• 吉村 昌弘

  東京工業大学工業材料研究所

• YOSHIMURA Masashi

  Department of Engineering, Osaka University

• MORI Yusuke

  Department of Engineering, Osaka University

• SASAKI Takatomo

  Department of Engineering, Osaka University

• Yoshimura Masashi

  Division Of Electric Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka Uni

• 吉村 昌弘

  東京工大

• 吉村 昌弘

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• 八島 正知

  東京工大 大学院総合理工学研究科

• Mori Y

  Research Center For Ultra-precision Science And Technology Graduate School Of Engineering Osaka Univ

• 垣花 眞人

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 垣花 眞人

  東京工業大学 工業材料研究所

• 間崎 啓匡

  防衛大学校数学物理学科

• Murata Yuya

  Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Graduate School Of Engineering Osaka U

• 八島 正知

  東京工業大学 大学院総合理工学研究科 材料物理科学専攻

• 安岡 宏

  防衛大応物

• 吉村 昌弘

  東工大工材研

• Uchitomi N

  Research And Development Center Toshiba Corp.

• 八島 正知

  東工大工材研

• 藤森 宏高

  山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻

• 安岡 宏

  防衛大学校数学物理学科

• 垣花 眞人

  Imram Tohoku University

• 石沢 伸夫

  名古屋工業大学セラミックス基盤工学研究センター

• 長田 実

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 垣花 眞人

  東工大工材研

• 石澤 伸夫

  東工大応セラ研

• Adachi H

  Graduate School Of Engineering Osaka University

• Adachi Hiroaki

  Department Of Electrical Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University

• 山本 直紀

  東工大理

• 森 茂生

  大阪府立大院工学

• 藤森 宏高

  山口大学大学院応用医工学系専攻

• ADACHI Hiroaki

  Department of Engineering, Osaka University

• 牧野 浩士

  東工大理

• 森 茂生

  東工大理

• 矢野 樹史

  東工大工材研

• 石澤 伸夫

  東工大工材研

• 飯尾 聡

  日本特殊陶業(株)技術開発本部開発センター

• 飯尾 聡

  日本特殊陶業(株)中央研究所

• 岡田 明

  日産自動車(株)基礎研究所

• YAP Yoke

  Department of Electrical Engineering, Osaka University

• Ueda K

  Toyota Technological Institute

• Ueda Kazuyuki

  Toyota Technological Inst. Nagoya Jpn

• 石川 賢司

  四日市大学総合政策学部

• Yoshida Kunio

  Department Of Electronics Information And Communication Engineering Osaka Institute Of Technology

• 岡田 明

  日産自動車(株)総合研究所

• 岡田 明

  日産自動車(株)中央研究所基礎研究室

• Ueda K

  Institute For Laser Science University Of Electro-communications

• Ueda K

  Kyushu Univ. Fukuoka Jpn

• 垣花 真人

  東工大工材研

• 間崎 啓匡

  防衛大物理

• 藤森 宏高

  山口大学工学部

• 長田 実

  物質・材料研究機構 ナノスケール物質センター

• Iwahashi Tomoya

  Matsushita Electric Works Ltd.

• MORI Yusuke

  Division of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka University

• SASAKI Takatomo

  Division of Electrical, Electronic and Information Engineering, Osaka University

• KAMIMURA Tomosumi

  Department of Electronics, Information and Communication Engineering, Osaka Institute of Technology

• 横田 修

  東工大工材研

• Mori Yusuke

  Graduate School of Engineering, Osaka University

• 井奥 洪二

  山口大学大学院医学研究科

• YAO Takafumi

  Department of Physics, Faculty of Science Tohoku University

• Ikeda Y

  Mitsubishi Electric Corporation Information Technology R&d Center

• Ikeda Y

  Mitsubishi Electric Corp. Kamakura‐shi Jpn

• Uchitomi Naotaka

  Research And Development Center Toshiba Corporation

• Ishida Koichi

  Optoelectronics Joint Research Laboratory:(present Address) Fundamental Research Laboratories Nec Co

• 栃原 信二郎

  防衛大学校数学物理学科

• 安岡 宏

  防衛大物理

• 石沢 伸夫

  東工大工材研

• 石川 賢司

  静大電子研

• Yoshida K

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Osaka University

• Yamaguchi K

  Osaka Univ. Osaka

• 吉田 起國

  京大原子エネルギー研

• YOSHIDA Kunio

  Department of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Institute of Technology

• 浅野 鉄夫

  住金テクノリサーチ(株)受託研究部

• Ishikawa K

  Department Of Organic And Polymeric Materials Tokyo Institute Of Technology

• 後藤 誠史

  山口大学大学院医学研究科応用医工学系

• YOSHIDA Kunio

  Osaka Institute of Technology

• Sasaki A

  Ntt Microsystem Integration Laboratories Ntt Corporation

• Sasaki Ai-ichiro

  Ntt Microsystem Integration Laboratories

• NAGAOKA Kazuaki

  Department of Electrical Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University

• TSUNESADA Fumi

  Department of Electrical Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University

• NAGATSUMA Tadao

  NTT Microsystem Integration Laboratories, NTT Corporation

• OCHIAI Yuta

  Synthesis Technology Research Laboratories, Daiichi Pure Chemicals Co., Ltd.

• FUKASAKU Noboru

  Synthesis Technology Research Laboratories, Daiichi Pure Chemicals Co., Ltd.

• 石川 賢司

  Shinshu Univ. Nagano Jpn

• 奈須野 善之

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• 藤森 宏高

  東京工業大学応用セラミックス研究所

• NAKAO Hiroshi

  Department of Infectious Diseases Research, National Children's Medical Research Centre

• Okamoto M

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• Uchitomi Naotaka

  Ulsi Laboratories Toshiba Research And Development Center

• KITAURA Yoshiaki

  ULSI Laboratories, Toshiba Research and Development Center

• 杉谷 嘉則

  筑波大化

• 山下 洋市

  Research And Development Division Riken Corporation

• 堂免 一成

  東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻

• 加藤 英樹

  東京理科大学理学部

• 工藤 昭彦

  東京理科大学理学部応用化学科

• 堂免 一成

  東大院工

• 堂免 一成

  東京大学大学院工学系研究科

• 中村 聡

  Institute Of Biomaterials And Bioengineering Tokyo Medical And Dental University

• 栃原 信二郎

  防衛大物理

• MATSUBARA Ichiro

  National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Advanced Manufacturing Rese

• AKIYAMA Tomoko

  Department of Psychiatry, Komagino Hospital

• 片野 進

  日本原子力研究所材料研究部

• 石沢 伸夫

  東京工業大学セラミックス研究所

• 澤野 清志

  セラミックス編集委員

• FUKUDA Tsuguo

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 山本 節夫

  山口大工

• 大城 和宣

  山口大工

• 高橋 秀雄

  旭硝子(株)中央研究所

• 中村 聡

  東医歯大・生材研・無機材料

• 伊藤 敦夫

  産業技術融合領域研究所

• 山本 節夫

  山口大学大学院理工学研究科

• 大城 和宣

  山口大学大学院応用医工学系専攻

• Takashi Ikuno

  Department Of Electric Engineering Graduate School Of Engineering Osaka University

• 青木 秀希

  埼玉工業大学

• 井上 剛

  大阪大学大学院基礎工学研究科電子光科学領域

• 貝沼 数敏

  株式会社フォトンデザイン

• 清水 良祐

  株式会社フォトンデザイン

• 重川 秀実

  筑波大学物理工学系

• 青木 秀希

  国際アパタイト研究所

• 杉谷 嘉則

  神奈川大学理学部

• 伊熊 泰郎

  神奈川工科大学

• 鈴木 康雄

  明治大学理工学部工業化学教室

• Akiyama Tomoko

  Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering The University Of Tokyo:(present Address)nikkei

• Brahadeeswaran Srinivasan

  Division Of Electrical Electronic And Information Engineering Osaka University

• Brahadeeswaran Srinivasan

  Department Of Engineering Osaka University

• TANIUCHI Tetsuo

  Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University

• HIGO Teruaki

  Department of Engineering, Osaka University

• TAKAGI Masayuki

  Department of Engineering, Osaka University

• NAKANISHI Hachiro

  Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University

• 工藤 昭彦

  東京理科大・理

• Takano Kazufumi

  SOSHO Project (Crystal Design Project), Osaka University

• Matsumura Hiroyoshi

  SOSHO Project (Crystal Design Project), Osaka University

• Inoue Tsuyoshi

  SOSHO Project (Crystal Design Project), Osaka University

• YOSHIDA Hidetsugu

  Institute of Laser Engineering, Osaka University

• IMADE Mamoru

  Division of Electric, Electronic and Information Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka

• HIRABAYASHI Yasuhiro

  Division of Electric, Electronic and Information Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka

• KONISHI Yusuke

  Division of Electric, Electronic and Information Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka

• UKEGAWA Hiroshi

  Division of Electric, Electronic and Information Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka

• MIYOSHI Naoya

  Division of Electric, Electronic and Information Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka

• KITAOKA Yasuo

  Division of Electric, Electronic and Information Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka

• Sasaki Tatsuya

  Opto And Wireless Deivce Res. Labs. Nec Corporation

• 浅野 鐵夫

  住友金属テクノロジー(株)

• 浅野 鐵夫

  住金テクノリサーチ(株)受託研究部

• 小梶 彰

  京セラ(株)総合研究所

• Sato T

  Jeol Ltd.

• SAKATA Kiyoshi

  Department of Public Health, Wakayama Medical University

• 青木 秀希

  東京医科歯科大学医用器材研究所

• 赤尾 勝

  東京医科歯科大学医用器材研究所

• 赤尾 勝

  東京医科歯科大学医用器材研究所無機材料部門

• 井奥 洪二

  高知大学理学部附属水熱化学実験所

• Ohnishi Norio

  Electrotechnical Laboratory

• 浅岡 伸之

  三菱マテリアル(株)開発技術センター

• 大柿 真毅

  東医歯大・医用研・無機

• 赤尾 勝

  東医歯大・医用研・無機

• 青木 秀希

  東医歯大・医用研・無機

• 瀧川 一也

  東京医科歯科大学医用器材研究所無機材料部門

• Takagi E

  Toshiba Corp. Kawasaki‐shi Jpn

• Tsuyoshi Inoue

  Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Osaka University

• Sakata K

  Kyoto Univ. Kyoto Jpn

• Niino Ai

  SOSHO Inc.

• 大柿 真毅

  東医歯大 生材研

• 大柿 真毅

  東京医科歯科大学生体材料工学研究所 素材部門 無機材料分野

• UEDA Ken-ichi

  Institute for Laser Science, University of Electro-Communications

• 滝川 一也

  東医歯大・医用研・無機

• 伊藤 敦夫

  工技院・産業技研

• 重川 秀実

  Univ. Tsukuba Tsukuba

• Shigekawa Hidemi

  Institute Of Applied Physics And Crest Japan Science And Technology Corporation (jst) University Of

• Shigekawa Hidemi

  Department Of Applied Physics The University Of Tokyo

• 日向 和昭

  Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology

• PETRYKIN Valery

  IMRAM Tohoku University

• 吉村 昌弘

  Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology

• 堂免 一成

  Department of Chemical System Engineering, The University of Tokyo

• 加藤 英樹

  Department of Applied Chemistry, Faculty of Science, Science University of Tokyo

• 工藤 昭彦

  Department of Applied Chemistry, Faculty of Science, Science University of Tokyo

• 金 畿永

  山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻

• 田村 洋二

  山口大学大学院医学研究科応用医工学系工学部機能材料工学科

• 針田 彬

  (株)トクヤマ

• 奈須野 善之

  東工大工材研

• 長田 実

  東工大工材研

• 安彦 毅哉

  神奈川大学理学部化学科

• 廣瀬 輝夫

  明治大学理工学部

• 野間 竜男

  東京農工大工

• HYODO Shin-ichi

  Department of Applied Physics, Faculty of Engineering, the University of Tokyo

• Armitage Rob

  Matsushita Electric Works Ltd.

• 赤尾 勝

  東京医歯大 医用器材研

• Kawano Senji

  Department Of Electrical Engineering Hiroshima University

• 堂免 一成

  Department Of Chemical System Engineering The University Of Tokyo

• NAKATSUKA Masahiro

  Institute of Laser Engineering, Osaka University

• TAKAHASHI Yoshinori

  Department of Chemistry, Faculty of Science, Tokyo University of Science

• Yoshida Hidemi

  Thin Films Laboratory Research Center Mitsubishi Kasei Corporation

• 滝川 一也

  東京医科歯科大学医用器材研究所無機材料部門

• Ohnishi Norio

  Electrotechnical Laboratory Ministry Of International Trade And Industry

• 吉村 昌弘

  Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology

• Takagi Eiji

  Corporate Research & Development Center Toshiba Corporation

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著作論文

• 364 nm Ar レーザを用いた近紫外ラマン分光の無機材料研究への応用
• High-Quality Organic 4-Dimethylamino-N-methyl-4-stilbazolium Tosylate (DAST) Crystals for THz Wave Generation
• 28p-A-7 Y_3TaO_7欠陥蛍石型酸化物の局所構造IV
• Y_3TaO_7欠陥蛍石型酸化物の局所構造III
• 31p-C-10 Y_3TaO_7欠陥蛍石型酸化物の局所構造II
• 29a-P-4 R_3TaO_7(R=Yb, Y)系欠陥蛍石型酸化物の局所構造
• Growth of Large GaN Single Crystals on High-Quality GaN Seed by Carbon-Added Na Flux Method
• Effect of RF Plasma Etching on Surface Damage in CsLiB_6O_ Crystal
• 熟硫酸中におけるアルミナセラミックスの腐食劣化挙動
• 窒化ケイ素セラミックスの溶液腐食試験(第3報) : 加熱硫酸中における腐食挙動と腐食層の組織
• 窒化ケイ素セラミックスの溶液腐食試験(第2報) : 煮沸硫酸中における重量減少と曲げ強さ
• 窒化ケイ素セラミックスの溶液腐食試験(第1報) : 試験方法と腐食液の種類の影響
• High-Quality Organic 4-Dimethylamino-N-Methyl-4-Stilbazolium Tosylate (DAST) Crystal for Electro-Optic Measurement(Special Issue on Recent Progress in Microwave and Millimeter-wave Photonics Technologies)
• Electro-Optic Measurement Using High-Quality : 4-dimethylamino-N-methyl-4-stilbazolium Tosylate (DAST) Crystal
• 錯体重合法によるHca_2Nb_3O_の光触媒特性
• YBa_Sr_xCu_3O_における酸素の無秩序化と電荷移動効果
• P-71 HIP法により作成した透明ハイドロキシアパタイト焼結体のキャラクタリゼイション
• 各種セラミックスの水溶液からのin situ低温作成
• BaTa_2O_6の紫外レーザーラマン分光法による1573Kまでのその場観察
• SrZrO_3の700から850℃における構造相転移のラマン分光による研究
• 顕微ラマン散乱による窒化アルミニウム半導体製造装置用部品の耐食性に関する研究
• 錯体重合法によるCa置換YBa_2Cu_3O_の合成とラマン散乱
• 錯体重合法による酸化物高温超伝導体の高純度合成
• ジルコニアの相変態 (特集 相変態現象)
• 錯体重合法により合成したCa-置換YBa_2Cu_3O_yの複素帯磁率
• Co置換YBa_2Cu_Co_xO_超伝導体のラマン散乱
• 錯体重合法によるPr-置換Y_2Ba_4Cu_7O_の複素帯磁率
• 錯体重合法による希土類と鉛で同時置換した変調構造のない(Bi, Pb)_2Sr_2(Ca, R)Cu_2O_(R:rare earth=Y)の合成
• 準安定HfO_2-YO_固溶体の格子定数と酸素の変位
• ジルコニアセラミックスの相転移と状態図
• ZrO_2-YO_
• Scanning Tunneling Microscopy Observation of Ar-Ion-Bombarded Si(001) Surfaces and Regrowth Processes by Thermal Annealing
• アーク溶解により作製した希土類添加ジルコニアの正方⇄単斜相転移温度
• A Resonant-Type GaAs Switch IC with Low Distortion Characteristics for 1.9GHz PHS (Special Issue on Microwave and Millimeterwave High-power Devices)
• A Monolithic GaAs Linear Power Amplifier Operating with a Single Low 2.7-V Supply for 1.9-GHz Digital Mobile Communication Applications
• Refractory WN_x/W Self-Aligned Gate GaAs Power Metal-Semiconductor Field-Effect Transistor for 1.9-GHz Digital Mobile Communication System Operating with a Single Low-Voltage Supply
• 90°Phase-Matching Properties of YCa_4O(BO_3)_3 and Gd_x Y_Ca_4O(BO_3)_3
• Single 3-V Supply Operation GaAs Linear Power MESFET Amplifier for 5.8-GHz ISM Band Applications (Special Issue on Microwave and Millimeter Wave Technology)
• A Buried-Channel Self-Aligned GaAs MESFET with High Power-Efficiency and Low Noise-Figure for 1.9-GHz Single-Chip Front-End MMICs (Special Issue on Low-Power and High-Speed LSI Technologies)
• A Buried-Channel WN_x/W Self-Aligned GaAs MESFET with High Power-Efficiency and Low Noise-Figure for Single-Chip Front-End MMIC in Personal Handy Phone System
• Buried-Channel WN_x/W Self-Aligned GaAs MESFET Process with Selectively Implanted Channel and Undoped Epitaxial Surface Layers for MMIC Applications
• Investigation of the Gd Variation of Gd_xY_Ca_4O(BO_3)_3 Crystal and Its Application : Structure and Mechanical and Thermal Properties of Condensed Matter
• Photoinduced Damage in Gd_Y_xCa_4O(BO_3)_3 Crystals
• この人にきく
• ファインセラミックスの腐食と劣化 (最新腐食学--いま何が問題か!)
• Two-Dimensional Hydrogen Analysis on Solid Surfaces by Time-of-Flight Electron-Stimulated Desorption Microscope
• Two-Dimensional Hydrogen Analysis of Hydrogen Storage Alloy Surface by Electron-Stimulated Desorption Microscopy
• Surface Analysis by Imaging of H^+ on Si Device Surface
• Two-Dimensional Hydrogen Analysis by Time-of-Flight-Type Electron-Stimulated Desorption Spectorscopy
• Nanometer-Scale Deposition of Ga on INF-Treated Si(111) Surfaces throughthe Decomposition of Triethylgallium by Scanning Tunneling Microscopy
• Fabrication of a-Plane GaN Substrate Using the Sr-Na Flux Liquid Phase Epitaxy Technique
• Synthesis of Bulk GaN Single Crystals Using Na-Ca Flux : Semiconductors
• Slope Nucleation Method for the Growth of High-Quality 4-Dimethylamino-Methyl-4-Stibazolim-Tosylate (DAST) Crystals
• セラミックスにおける準安定相の生成とその状態図 (セラミックス全展望--セラミックス・ジャパン′91を迎えて)
• Intermittent Automodulation Observed in Fe-3% Si Reeds
• Bulk Laser Damage in CsLiB_6O_ Crystal and Its Dependence on Crystal Structure
• 水熱法によるヒドロキシアパタイトホイスカ-の合成
• 水熱合成による水酸アパタイトウイスカ- (アパタイト材料の進歩)
• 錯体重合法によるペロブスカイト型複合酸化物の合成
• Scanning Capacitace Microscope/Atomic Force Microscope/Scanning Tunneling Microscope Study of Ion-Implanted Silicon Surfaces
• Adsorption and Desorption of AlCl_3 on Si(111)7×7 Observed by Scanning Tunneling Microscopy and Atomic Force Microscopy
• Photochemical Hole Burning of Quinone Derivatives : Future Technology
• Photochemical Hole Burning of Quinone Derivatives
• Growth of a Two-Inch GaN Single Crystal Substrate Using the Na Flux Method
• A Palm-Size Ultraviolet Laser Using a Combination of a Monolithic Wavelength Converter and an Optical Fiber
• Improvement in UV Optical Properties of CsLiB_6O_ by Reducing Water Molecules in the Crystal
• 355-nm UV Light Generation in High-Quality CsB_3O_5 Fabricated by Post-Growth Heat Treatment
• イットリウム系超伝導体における電荷移動効果とラマン散乱
• Influence of Crystallinity on the Bulk Laser-Induced Damage Threshold and Absorption of Laser Light in CsLiB_6O_ Crystals : Optics and Quantum Electronics
• Growth of KLN Fiber Crystals and Its Application for Blue-Violet Light Generation
• Control of Nucleation Site and Growth Orientation of Bulk GaN Crystals
• Na : A New Flux for Growing Hexagonal Boron Nitride Crystals at Low Temperature
• Novel Liquid Phase Epitaxy(LPE) Growth Method for Growing Large GaN Single Crystals: Introduction of the Flux Film Coated-Liquid Phase Epitaxy (FFC-LPE) Method
• Crystal Growth of Thermoelectric Material Na_xCoO_ by a Flux Method : Structure and Mechanical and Thermal Properties of Condensed Matter
• Growth of High-Quality CsLiB_6O_ Crystals from Materials Mixed in Aqueous Solution
• 2a-PS-50 錯体重合法によるSr置換YBa_2Cu_3O_yの超伝導特性
• 12p-PSB-33 錯体重合法によるCo置換YBa_2Cu_3O_yの交流磁場応答
• Generation of Tunable Near-UV Laser Radiation by Type-I Second-Harmonic Generation in a New Crystal, K2Al2B2O7 (KABO)
• New Practical Technique for Protein Crystallization with Floating and Stirring Methods
• Synthesis of GaN Crystal Using Gallium Hydride
• Temperature-Insensitive Second-Harmonic Generation at 0.5321 μm in YCa4O(BO3)3
• The Growth of K_2Al_2B_2O_7 (KAB) Crystal by Modified Middle Seeded Solution Growth (MSSG) Method : Structure and Mechanical and Thermal Properties of Condensed Matter
• セラミックスの高温高圧水中における腐食と変質
• Preparation and Luminescence of Crystallized Ba_Sr_XMoO_4 Solid-Solution Films by an Electrochemical Method at Room Temperature
• Growth of Protein Crystal at Interface between Two Liquids Using Slow Cooling Method : Structure and Mechanical and Thermal Properties of Condensed Matter
• Tic,TiN,TiCN,TiCON,CVDコーティング膜の水熱酸化腐食
• 反応焼結法による水酸アパタイトとβ-リン酸三カルシウムの微構造制御多孔性複合体
• Phase-Matching Properties at around 190nm of Various Borate Crystals
• Growth of Prismatic GaN Single Crystals with High Transparency on Small GaN Seed Crystals by Ca-Li-Added Na Flux Method
• 1p-PS-27 焼結体セラミック超伝導体の高調波複素帯磁率
• Phase-Matching Properties at around 190nm of Various Borate Crystals
• 環境にやさしいセラミック材料とその作製プロセス
• 耐火物の基礎科学--構成成分の結晶化学と物性--ジルコニア(ZrO2)-1-基礎(実践的耐火物講座)

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