山本 節夫 | 山口大学 工学部

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概要

• 同名の論文著者
• 山口大学 工学部の論文著者

関連著者

• 山本 節夫

  山口大学 工学部

• 松浦 満

  山口大学 工学部

• 山本 節夫

  山口大学大学院理工学研究科

• 松浦 満

  山口大学大学院理工学研究科

• 栗巣 普揮

  山口大工

• 山本 節夫

  山口大(工)

• 松浦 満

  山口大 工

• 栗巣 普揮

  山口大・工

• 栗巣 普揮

  山口大学 工学部

• 松浦 満

  山口大(工)

• 栗巣 普揮

  山口大学工学部

• 山本 節夫

  山口大工

• 松浦 満

  山口大工

• 大城 和宣

  山口大工

• 田万里 耕作

  戸田工業株式会社

• 大城 和宣

  山口大学 工学部

• 平田 京

  山口大学工学部

• 大城 和宣

  山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻

• 田万里 耕作

  戸田工業

• 土井 孝紀

  戸田工業

• 大城 和宣

  山口大学大学院応用医工学系専攻

• 堀江 真司

  山口大学工学部

• 栗巣 普揮

  山口大学・工

• 堀江 真司

  山口大学 工学部

• 藤森 宏高

  山口大学工学部

• 棚町 信次

  山口大学工学部

• 藤森 宏高

  山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻

• 藤森 宏高

  山口大学大学院医学研究科

• 寒川 賢義

  山口大

• 藤森 宏高

  東京工業大学工業材料研究所

• 棚町 信次

  山口大学 工学部

• 藤森 宏高

  東工大 応用セラミックス研

• 柿原 康男

  戸田工業

• 山本 節夫

  山口大学工学部

• 松浦 満

  山口大学工学部

• 田中 輝光

  山口大学大学院理工学研究科

• 林 利彦

  山口大

• 中田 健一

  Toda Citron Technologies

• 土井 孝紀

  戸田工業株式会社創造本部

• 中田 健一

  戸田工業

• 山時 照章

  山口大学工学部

• 土井 孝紀

  戸田工業(株)創造本部

• 田万里 耕作

  戸田工業(株)創造本部

• 栗原 普揮

  山口大

• 三上 秀人

  日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所

• 藤井 重男

  日立金属株式会社 先端エレクトロニクス研究所

• 和田 宏文

  山口大学工学部

• 下里 義博

  株式会社島津製作所

• 山時 照章

  山口大工

• 西村 和則

  山口大学工学部機能材料工学科

• 西村 和則

  山口大学 工学部

• 荻田 知治

  山口大学

• 小嶋 勇介

  山口大学工学部

• 栗巣 普輝

  山口大・工

• 荻田 知治

  山口大学工学部

• 小嶋 勇介

  山口大学工学部機能材料工学科

• 栗巣 普輝

  山口大(工)

• 登尾 尚史

  山口大学工学部

• 三上 秀人

  日立金属(株)

• 藤井 重男

  日立金属(株)

• 栗巣 普輝

  山口大学工学部

• 栗巣 普輝

  山口大学大学院理工学研究科

• 下里 義博

  (株)島津製作所

• 岡田 繁信

  株式会社島津製作所

• 石田 元

  山口大学工学部

• 石田 浩一

  山口県産業技術センター

• 藤井 重男

  日立金属株式会社磁性材料研究所

• 池田 朋広

  山口大学工学部

• 牛尾 雄史

  山口大学

• 国木 弘文

  山口大学工学部

• 張 平宇

  清州大学工学部

• 仲摩 和浩

  山口大学工学部

• 置 直之

  山口大学 工学部

• 仲摩 和浩

  山口大

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著作論文

• 2) ペニング電離を利用したCo含有酸化鉄薄膜メディアの低温・高速作製法(画像情報記録研究会)
• 酸素イオン照射によるCo含有酸化物薄膜メディアの作成
• コプレーナ導波路構造を用いたサーキュレータ
• 低背型アイソレータの開発
• 酸化鉄保護層を有するCo-Cr垂直磁気記録媒体
• 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜のポスト酸化処理効果
• C-7-2 反応性ECRスパッタ法で作製したCo含有酸化鉄薄膜の磁場中アニール効果
• YIGフェライト単結晶の利用によるマイクロストリップYアイソレータの小型化
• 3)誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr薄膜の作製(画像情報記録研究会)
• 7)誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成(画像情報記録研究会)
• 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
• 放電プラズマ焼結法を用いて作製した高B_Sコア材
• 低電圧でのECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
• サーキュレータ用YIGフェライト薄膜のフラッシュアニール効果
• YIGフェライト薄膜を使用したサーキュレータ
• DC-DCコンバーター用薄型インダクタ
• 平坦化したフェライト基板上に作製したインダクタ
• マイクロ波磁気デバイス用YIGフェライト薄膜の作製
• コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製
• Co含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
• 3-8 Co含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
• 放電プラズマ焼結法による軟磁性フェライトの製造
• Co-γFe_2O_3/NiO長手磁気記録媒体の作製と記録特性
• ECRスパッタ法で作製したCo-Cr-Ta垂直磁気ディスクの記録特性
• コイル埋め込み型インダクタの作製
• 放電プラズマ焼結法によるフェライト/金属磁性積層体の作製
• 放電プラズマ焼結法によるMn-Znフェライトの作製
• 放電プラズマ焼結法によるBaフェライトの製造
• C-7-1 放電プラズマ焼結法で作製した軟磁性コア
• ECRイオンビームスパッタ法によるMn-Znフェライト薄膜の作製
• 放電プラズマ焼結法による厚膜フェライトの作製
• C-7-1 単磁極型垂直磁気ヘッドの作製
• 単磁極型垂直磁気ヘッドの作製

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