低電圧でのECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
栗巣 普揮
山口大工
-
大城 和宣
山口大工
-
栗巣 普揮
山口大学工学部
-
大城 和宣
山口大学 工学部
-
松浦 満
山口大学 工学部
-
山本 節夫
山口大学 工学部
-
藤森 宏高
山口大学工学部
-
田中 輝光
山口大学大学院理工学研究科
-
山本 節夫
山口大学大学院理工学研究科
-
松浦 満
山口大学大学院理工学研究科
-
大城 和宣
山口大学大学院応用医工学系専攻
-
石田 元
山口大学工学部
-
藤森 宏高
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
-
荻田 知治
山口大学
-
大城 和宣
山口大学大学院医学系研究科応用医工学系専攻
-
藤森 宏高
山口大学大学院医学研究科
-
荻田 知治
山口大学工学部
-
藤森 宏高
東京工業大学工業材料研究所
-
栗巣 普揮
山口大学 工学部
-
藤森 宏高
東工大 応用セラミックス研
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