コーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製(ソフト磁性材料)
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概要
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In order to achieve high rate deposition of Ni-Zn ferrite thin-films in reactive sputtering, a conic target with a sputtering area of 750 cm^2 was equipped in an ECR (electron-cyclotron-resonance) sputtering apparatus. Highly oriented Ni-Zn ferrite thin-films with a saturation magnetization of 290 emu/cc, a low coercivity of 11 Oe, and a relatively small stress of 4 × 10^9 dynes/cm^2 could be prepared at a substrate temperature of 250 ℃ and a high deposition rate of 44 nm/min. It was found that saturation magnetization and coercivity of the Ni-Zn ferrite thin-films strongly depend on the reduced process parameter: oxygen partial pressure divided by deposition rate.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2004-05-01
著者
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