Co-γFe_2O_3/NiO薄膜磁気メディア作製法の検討 : ECR酸素プラズマを用いた低温酸化処理の試み
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-03-06
著者
-
中田 健一
Toda Citron Technologies
-
土井 孝紀
戸田工業株式会社創造本部
-
山本 節夫
山口大学工学部
-
山時 照章
山口大学工学部
-
栗巣 普揮
山口大学工学部
-
松浦 満
山口大学工学部
-
中田 健一
戸田工業株式会社
-
田万里 耕作
戸田工業株式会社
-
土井 孝紀
戸田工業
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