誘導結合型プラズマを用いたスパッタ法で作成したCo-Cr垂直磁気ディスク
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概要
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誘導結合型プラズマ(ICP)生成法とマグネトロンスパッタ法を組み合わせたスパッタ装置を用いて、Co-Cr垂直磁気ディスクを作製した。このスパッタ装置において、ICPへの投入電力を変化させた場合の、プラズマ状態、作製したCo-Cr磁気ディスクの磁気特性・表面状態・記録特性などについて調べた。ICPへの投入電力と基板バイアス電圧によって、プラズマ中のイオンの量と基板を照射するイオンの加速電圧を、通常のマグネトロンスパッタ装置よりも広範囲に変化できることが明らかになった。また、ICP投入電力を増すにつれてスパッタ時のプラズマ密度が増すために成膜速度が増加し、ギャップ長が0.2μmのMIGヘッドを用いて接触記録を行なった場合に、高い再生電圧と180kFRPIを越えるD_<50>が得られた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-07-17
著者
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