誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成
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概要
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筆者らは既に, 電子サイクロトロン共鳴マイクロ波プラズマを用いたスパッタ法(ECRスパッタ法)では, プラズマ生成とスパッタリングおよび成膜の機能分離ができるため, プロセスパラメータの制御範囲が広がり, 高密度記録に適したCo-Cr磁気記録媒体を作成てきることを見出している。しかしながら高い成膜速度を実現するには改良が必要である。本研究では, プラズマ生成とスパッタリングを独立制御でき, しかも高速成膜が可能なスパッタ法のひとつとして, 誘導結合型プラズマ(ICP)を使用したマグネトロンスパッタ装置を製作し, これを用いてCo-Cr磁性薄膜の作成を試みた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
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