反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の作製
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概要
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- 2002-09-01
著者
-
栗巣 普揮
山口大工
-
松浦 満
山口大学 工学部
-
山本 節夫
山口大学 工学部
-
和田 宏文
山口大学工学部
-
山本 節夫
山口大学大学院理工学研究科
-
松浦 満
山口大学大学院理工学研究科
-
下里 義博
(株)島津製作所
-
下里 義博
株式会社島津製作所
-
栗巣 普揮
山口大・工
-
山本 節夫
山口大(工)
-
松浦 満
山口大 工
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