Internal Stress of CoSi_2 Films Formed by Rapid Thermal Annealing

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1994-10-15

著者

• AZUMA Hirozumi

  TOYOTA Central Research and Development Laboratories Inc.

• NODA Shoji

  TOYOTA Central Research and Development Laboratories Inc.

• Noda S

  Assoc. Super‐advanced Electronics Technol. (aset) Yokohama Jpn

• Noda Shoji

  Toyota Central R & D Labs. Inc.

• Noda Shoji

  Toyota Central Research And Development Labs

• Azuma Hirozumi

  Toyota Central Research & Development Laboratories Inc.

• Noda S

  Assoc. Super‐advanced Electronics Technol. Kanagawa Jpn

• ITO Tadashi

  TOYOTA Central Research & Development Laboratories, Inc.

• Noda Shuichi

  Association Of Super-advanced Electronics Technologies (aset):(present Address)vlsi R&d Center O

• Noda Syuichi

  Oki Electric Industry Co. Ltd.

• Ito T

  Osaka Univ. Osaka Jpn

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