可変成形型電子ビーム露光データ生成のためのマスクパターンの台形分割手法

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概要

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可変成形型電子ビーム(EB)露光装置は、高速描画が可能であるため、大規模LSIのマスク製造において主流となっている。この装置は、断面が台形のEBを照射するため、多角形の集合であるマスクパターンデータを台形の集合として表現し直す(台形分割と呼ぶ)必要がある。この分割結果がマスクの製造精度に影響を与えることが知られている。近年、半導体プロセスの微細化に伴い、この影響が非常に重大なものになっている。従来より台形分割の手法が提案されているが、これらの手法は、露光時間短縮のために分割後の台形数を最小化することを目的としている。これら従来の台形分割問題は、グラフの最大要素数の独立点集合を求める問題に帰着されるが、本文の製造精度向上を目的とした台形分割問題は、これらとは全く異なる問題となる。本文では、製造精度向上を目的とした新しい台形分割手法を述べる。
社団法人電子情報通信学会の論文
1996-09-18

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