可変成形型EB露光データ生成のためのマスクパターンの台形分割手法
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概要
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可変成形型EB(電子ビーム)露光装置の入力データ生成で用いる, 新しい台形分割アルゴリズムについて述べる. この装置の入力データ生成では, マスクパターンデータを構成する個々の多角形を, 台形の集合に表現し直す処理(台形分割)が必要となる. 本論文で扱う台形分割問題は, LSIマスクの製造精度向上のために, 微小幅台形の生成の抑制と, クリティカル部の分割の抑制を目的関数としている点で, 従来の問題と異なる. 本手法では, この新しい問題を, 多角形から斜辺を除去することにより, 複合長方形の長方形への分割問題として解く. この長方形分割問題に対し, 分割線の候補の間の関係を表現する相関グラフを導入し, すべての可能な分割線候補から適切な分割線を効率良く選ぶグラフベースのアルゴリズムを提案する. 本手法を64Mと256M DRAMのマスク作成に適用した結果,良好な分割結果が, 実用的な実行時間で得られた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-12-25
著者
-
寺井 正幸
大阪学院大学情報学部
-
寺井 正幸
三菱電機株式会杜 半導体基盤技術統括部 Eda技術部
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寺井 正幸
三菱電機
-
森泉 幸一
三菱電機
-
中尾 博臣
三菱電機株式会社
-
森泉 幸一
三菱電機株式会社
-
中尾 博臣
三菱電機株式会社システムlsi事業統括部
-
中尾 博臣
三菱電機株式会社 半導体基盤技術統括部 Eda技術部
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