エンベッデッドアレイ用レイアウト設計支援システム
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概要
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近年、セルベース設計手法とゲートアレイ設計手法の各々の利点を兼ね備えたエンベッデッドアレイ(EA)の開発が増えてきている。EA設計では、チップ毎に最適なサイズ、最適なメガセルの配置位置を論理設計のなるべく早い段階で決定しベースアレイの製造を始めることが必要である。ゲートアレイ設計では、種々のサイズのベースアレイの選択とフロアプランニングを繰り返すことにより最適なチップサイズを決定する手法[1]が提案されている。EAにこの方法を適応すると、チップサイズ変更の度にベースアレイを設計し直す必要があり、この作業に大きな労力が必要となる。特に最適なチップサイズを求める場合は、チップサイズの変更回数が多くなるため、ベースアレイ開発期間の増大を招く。本稿では、開発期間短縮のために開発したEA用レイアウト設計支援システムの、ベースアレイ生成ツールの機能の概要と適用結果について述べる。
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 1995-09-20
著者
-
寺井 正幸
大阪学院大学情報学部
-
寺井 正幸
三菱電機株式会杜 半導体基盤技術統括部 Eda技術部
-
寺井 正幸
三菱電機
-
佐藤 興二
三菱電機セミコンダクタソフトウェア株式会社
-
佐藤 興二
三菱電機株式会社システムLSI開発研究所
-
中尾 博臣
三菱電機株式会社
-
林越 美智子
三菱電機株式会社 システムLSI開発研究所
-
中尾 博臣
三菱電機株式会社システムlsi事業統括部
-
中尾 博臣
三菱電機株式会社 半導体基盤技術統括部 Eda技術部
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