超微粒子種結晶を用いたダイヤモンド薄膜の低温合成(<小特集>カーボン)
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概要
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Well-faceted diamond films have been fabricated at 200℃ by the magneto-active microwave plasma chemical vapor deposition (CVD) method. The silicon substrate for deposition was seeded with nanocrystal diamond instead of the conventional scratching procedure with diamond powder. The commercially available nanocrystal diamond was synthesized by an implosion process and 5 nm in diameter. For the successful fabrication of rather high quality diamond films, it was neccssary to purify and disperse the nanocrystal powder. The nanocrystal seeding brought about the improvement in quality of the resulting films and cutting down the nucleation time specially for the low temperature growth.
- 日本結晶成長学会の論文
- 1995-09-25
著者
-
伊藤 利道
大阪大 大学院工学研究科
-
平木 昭夫
大阪大学工学研究科フロンティア研究センター
-
八田 章光
大阪大学工学部電気工学科
-
伊藤 利道
大阪大学工学部電気工学科
-
屋良 卓也
大阪大学工学部電気工学科
-
平木 昭夫
高知工科大学電子・光システム工学科
-
牧田 寛
大阪大学工学部電気工学科
-
八田 章光
大阪大学工学部
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