多孔質シリコンの可視PLスペクトルの陽極化成中照射光依存性
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概要
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多孔質シリコン(PS)はその作製段階での光照射によるホール生成が可視発光領域での強いフォトルミネッセンス(PL)の重要な要素となっている.我々は,多孔質シリコンにおいて陽極化成時の光を照射するタイミングを変化させることにより,PLスペクトルに大きな違いが生じることを発見した.今回,陽極化成後半の照射時間を変化させ作製した試料についてPLスペクトルの強度変化および狭幅化に対する影響を調べた.また,光照射時の電流密度,光強度に対する依存性についても合わせて検討した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-12-05
著者
-
伊藤 利道
大阪大 大学院工学研究科
-
岡本 充央
大阪大学工学部電気工学科
-
大岩 孝
大阪大学工学部電気工学科
-
八田 章光
大阪大学工学部電気工学科
-
伊藤 利道
大阪大学工学部電気工学科
-
八田 章光
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
岡本 充央
大阪大学
-
長尾 孝信
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
伊藤 利道
大阪大学
-
大岩 孝
大阪大学
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