八田 章光 | 大阪大学工学部電気工学科
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
伊藤 利道
大阪大 大学院工学研究科
-
八田 章光
大阪大学工学部電気工学科
-
伊藤 利道
大阪大学工学部電気工学科
-
八田 章光
大阪大学工学部
-
平木 昭夫
大阪大学工学研究科フロンティア研究センター
-
平木 昭夫
高知工科大学電子・光システム工学科
-
新垣 修
大阪大学工学部電気工学科
-
米田 敏之
大阪大学工学部電気工学科
-
山本 拓郎
大阪大学工学部電気工学科
-
八田 章光
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
伊藤 利道
大阪大学
-
岡本 充央
大阪大学工学部電気工学科
-
大岩 孝
大阪大学工学部電気工学科
-
岡本 充央
大阪大学
-
本井 見二
大阪大学工学部電気工学科
-
大岩 孝
大阪大学
-
古田 啓介
大阪大学工学部電気工学科
-
小川 兼司
大阪大学工学部
-
江 南
大阪大学工学部
-
西村 征起
大阪大学工学部
-
八木 弘雅
大阪大学工学部
-
長尾 孝信
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
森 勇介
大阪大学工学部電気工学科
-
佐々木 孝友
大阪大学
-
森 勇介
大阪大学工学部
-
空田 晴之
大阪大学工学部電気工学科
-
小川 兼司
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
江 南
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
八木 弘雅
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
栄森 信広
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
屋良 卓也
大阪大学工学部電気工学科
-
西村 征起
大阪大学
-
全 炯敏
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
-
今川 和之
大阪大学
-
坪内 俊博
大阪大学工学部電気工学科
-
岡田 隆史
大阪大学工学部電気工学科
-
平木 昭夫
大阪大学,高知工科大学電子・光システム工学科
-
保科 公彦
大阪大学工学部
-
平木 昭夫
大阪大学高知工科大学設立準備財団
-
牧田 寛
大阪大学工学部電気工学科
-
栄森 信広
大阪大学工学部電気工学科
著作論文
- 多孔質シリコンから観測される半値幅の狭いフォトルミネセンス
- ポーラスシリコンの酸化による構造安定化とその物性
- 金属メッキされた多孔質シリコンの微細構造と膜中分布
- 水素プラズマ処理による酸化多孔質シリコンのPL、EL特性の安定化
- pn接合多孔質シリコンの可視発光
- 気相合成ダイヤモンドによる薄膜電子エミッターの作製
- 窒素ドープダイヤモンドの表面抵抗及び結晶性の評価
- ガスパフを用いた有磁場マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド成膜とラジカルの時間変化
- 多孔質シリコンの可視PLスペクトルの陽極化成中照射光依存性
- 硝酸塩水溶液のパルス噴霧熱分解法によるYBa_2Cu_3O_超伝導薄膜の作製
- 可視発光多孔質シリコンの陽極酸化処理効果
- 気相合成ダイヤモンドの電子デバイスへの応用
- ダイヤモンド気相合成における基板バイアスによる核発生過程
- 負性電子親和力ダイヤモンド半導体-ディスプレイ材料としての可能性-
- 半導体ダイヤモンド薄膜を用いた電子エミッタ
- 超微粒子種結晶を用いたダイヤモンド薄膜の低温合成(カーボン)
- 気相合成ダイヤモンド薄膜/金属界面の特性